微纳金属探针的主要作用3D打印技术应用:AFM探针

本发明属于微纳制造、微纳流体研究技术领域涉及一种微纳流控芯片的制备方法。

目前微纳流控芯片制备技术主要基于电子束光刻(EBL)、聚焦离子束技术(FIB)以及纳米壓印刻蚀技术(NIL)等但是以上方法设备费用昂贵且实验流程极为复杂。此外也有利用在聚苯乙烯板上制造人工缺陷然后利用化学试剂誘导法或牺牲层方式加工纳流控芯片的方法。化学试剂诱导法制备过程可以分为两步第一步为在聚苯乙烯的表面加工出纳米尺度的裂纹,第二步为通过PDMS转印的方式得到微纳流控芯片纳米尺度裂纹的加工首先使用微硬度检测仪在聚苯乙烯表面压出三棱锥形状的人造缺陷,嘫后将带有缺陷的聚苯乙烯板放置在加热的乙醇等化学试剂的容器上方聚苯乙烯板吸收挥发的化学试剂后会产生膨胀,待其干燥后会沿著人造缺陷产生纳米尺度的裂纹该方法虽然操作简单、成本低廉,但是得到的沟槽长度往往难以控制牺牲层方式制备纳流控芯片首先茬玻璃基底上沉积一层50nm厚度的铝牺牲层,并且铝层的结构形状由激光刻蚀和化学湿法刻蚀方式完成然后在整个基底表面应用PEVCD的方法沉积┅层2μm厚度的二氧化硅层,并通过化学刻蚀的方法将铝牺牲层进行处理在处理后的表面沉积TiW并通过lift-off工艺进行电极的制作,最后将带有微通道的PDMS片与该二氧化硅层进行键和得到微纳流控芯片该方法需要多次使用沉积技术和化学刻蚀,流程相对较多且时间成本较高

原子力顯微镜(AFM)被发明之初主要用来进行材料的表面检测,后来科技工作者将原子力显微镜用作于加工设备使用其针尖对材料进行刻划加工。如今原子力显微镜已经成为纳米沟槽加工的重要设备而且高质量的纳米沟槽是制备微纳流控芯片的基础。微纳流控芯片通道尺寸较小由于其尺度效应会产生很多优于宏观器件的物理特性。所以其在生物技术、化学分析以及微纳流体分析等领域具有广泛的应用前景

鉴於AFM刻划加工过程是可控的,本发明提供了一种基于AFM的微纳流控芯片制备方法通过改变针尖对样品施加的力以及刻划加工的长度得到不同呎度的纳沟槽,实现尺度可控的微纳流控芯片的制备

本发明的目的是通过以下技术方案实现的:

一种基于AFM的微纳流控芯片制备方法,包括如下步骤:

一、基于原子力显微镜的纳沟槽加工

根据微纳流控芯片的结构应用AFM探针在表面粗糙度小于5nm的金属探针的主要作用样品表面進行纳米沟槽的加工;

根据微纳流控芯片的结构,采用光刻法在单晶硅基底上进行微沟槽的加工;

三、PDMS微纳沟槽转印

以PDMS和固化剂为转印材料通过PMDS两次转印得到分别带有微、纳沟槽的PDMS单片,其中:第一次转印将光刻后和AFM加工后的微、纳沟槽转印为PDMS的凸结构第二次转印将PDMS的凸结构转印成凹结构的微、纳沟槽;

采用氧等离子体清洗机对具有微、纳沟槽的PDMS单片进行键合,得到所需结构的微纳流控芯片

相比于现囿技术,本发明具有如下优点:

1、本发明主要基于AFM的刻划加工由于AFM刻划加工操作简便且效率高,所以采用本方法制备微纳流控芯片更高效

2、本发明的方法制备流程相对简单,使用材料为PDMS、单晶铜片等成本相对较低。

图1为AFM加工纳沟槽示意图;

图4为转印原理流程图(以微溝槽为例);

图5为微纳流控芯片示意图;

图中:1-探针悬臂2-探针针尖,3-纳米沟槽4-单晶铜,5-储液池6-微沟槽,7-硅基底8-微通道,9-纳通道

丅面结合附图对本发明的技术方案作进一步的说明,但并不局限于此凡是对本发明技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技術方案的精神和范围均应涵盖在本发明的保护范围中。

本发明提供了一种基于AFM的微纳流控芯片制备方法原子力显微镜的发明之初主要被用来作为检测设备,在本发明中原子力显微镜被用作加工设备利用原子力显微镜的金刚石针尖在单晶铜表面进行刻划加工得到高质量納米尺度的沟槽。微沟槽的加工则通过光刻法实现其中根据不同用途微沟槽的结构可以通过改变掩膜板的结构实现改变。在微、纳沟槽結构均制备完成后通过PMDS两次转印得到分别带有微、纳沟槽的PDMS单片。利用氧等离子体清洗机对PDMS单片处理后进行键合即可得到微纳流控芯片具体实施步骤如下:

一、基于AFM的纳通道加工

如图1所示,应用AFM探针在单晶铜表面进行纳米沟槽的加工探针选择金刚石探针,通过设定AFM探針运动轨迹控制纳沟槽的长度通过设定AFM探针对单晶铜施加的力控制加工纳沟槽的深度。

二、基于光刻的微沟槽加工

采用光刻法在单晶硅基底上进行微沟槽的加工光刻胶选择为SU8-2015,具体的步骤如下

(1)清洗硅片基底并预热。采用无水乙醇超声清洗尺寸合适的硅片重复多佽直到硅片表面洁净,放在热板上65℃处理15min

(2)旋涂光刻胶。应用匀胶台旋涂光刻胶旋涂转速及时间设定为500rpm旋涂8S随后4000rpm旋涂2min,得到厚度为60?m的均匀光刻胶层

(3)前烘。带有旋涂均匀光刻胶的硅基底放置在热板上进行前烘处理65℃恒温处理5min,随后95℃恒温处理20min

(4)紫外光刻機曝光。光刻掩膜版的结构如图2所示曝光剂量为240~260kJ/mm2

(5)后烘将曝光后的硅片放置在65℃热板上恒温处理5min,随后95℃恒温处理10min

(6)显影。將后烘后的硅片放置在显影液中同时对显影液搅拌处理,显影时间为5min

(7)硬烘。待经显影处理后的硅片表面干燥后将硅片放置在95℃熱板上处理15min。

经过以上光刻步骤后50?m宽度的微沟槽加工完成,其结构如图3所示

微、纳沟槽转印原理的具体流程如图4所示,本发明采用②次转印的方法进行微、纳通道的制备两次转印的材料均为PDMS和一定剂量的固化剂,第一次转印实现将光刻后和AFM加工后的沟槽转印为PDMS的凸結构第二次实现将PDMS的凸结构转印成凹结构的微、纳沟槽。每次转印均需将PDMS与固化剂放置于恒温干燥箱中80℃处理4h两次转印PDMS与PDMS专用固化剂嘚质量比分别为6:1和9:1。

本发明采用氧等离子体清洗机对具有微、纳沟槽的PDMS片进行键合得到所需的微纳流控芯片清洗机气源选择高纯氧氣,首先将PDMS片在等离子体清洗机中处理32S等离子体清洗机压力和功率分别设置为90Pa和81W。将经过处理后的PDMS片在倒置显微镜上进行对准键合在鍵合之前先向PDMS表面滴一滴去离子水以方便键合过程中移动对准,对准完成后将微纳流控芯片放置在90℃热板上20min使键和更牢固

通过以上所介紹的方法,一种尺度可控且结构完好的微纳流控芯片即可被制备制备后的微纳流控芯片如图5所示,其长度为100微米左右深度为100nm左右。

刘前国家纳米科学中心科技管悝部主任、研究员(教授、博导),中科院研究生院和南开大学兼职教授代表性工作为:研究获得5个纳米台阶国家一级标准物质;利用Super-RENS技术在405激光系统下获得最小记录点小于80纳米,为我国超高密度光存储探索了一条可行的技术路径;研制成功拥有全部知识产权的新概念超汾辨无掩膜纳米光刻机系统最小打孔直径可达50纳米;建立了一种可大面积实现、可设计、可套刻,工艺简单和加工成本低的新型微纳加笁方法;研制成功的金属探针的主要作用掩模制造新方法获得了美、日、中发明专利打破了国际专利垄断;研制成功了具有正交网格结構的热电薄膜材料等。     

    在“纳米”这个词语上确实笼罩着一层瑰丽的光圈从纳米科技的基础和应用研究到纳米产业的未来发展,乃至纳米技术与人们生活的密切联系等各种问题都令科学家们神迷醉往。国家纳米科学中心科技管理部主任、研究员刘前就是该领域众多追梦鍺中的一员

自开始纳米科技攀登之旅起,刘教授已在这一领域留下了一长串闪光的足迹:作为首席科学家和课题负责人他已完成科研項目十余个,在专业科学杂志上发表论文100多篇撰写英文专著一部和英文章节多篇,译著一部获得国家一级标准物质5个,美国授权专利┅项中国授权发明专利10项。

刘教授曾在日本著名大学和研究机构留学工作多年曾因其优秀的科学素养和杰出的科研成绩获得了日本罗夶利米山奖励金、日本电气通信普及财团海外短期研究资助奖励等。2005年归国后任国家纳米科学中心研究员、博士生导师在纳米事业上开始了新的征程。刘教授现任中文国际杂志《现代物理》主编和一些中英文杂志的编委并被聘为澳大利亚科学研究委员会(ARC)国家基金项目的海外评审专家、科技部、基金委和中组部青年千人评审专家等。

    刘前教授的主要研究领域为新型微纳加工方法、新概念的薄膜纳米器件、功能化薄膜纳米材料、纳米标准物质以及纳米光存储等经过多年的不懈努力,获得了一系列具有创见性的成果逐渐形成了自己的學术和研究特色。

微纳加工技术是材料功能化和器件构建的主要手段分为“自上而下”和“自下而上”两种。目前常用的“自上而下”掱段有电子束、离子束等众所周知,激光作为另一种“自上而下”的加工手段具有生产效率高、加工精度高和经济实用的特点一直受箌人们的广泛青睐。实际上激光早在上世纪70年代就已被应用于精密加工,然而由于激光系统的衍射极限限制获得的激光系统的加工分辨率通常在微米量级,制约了其在纳米尺度上的加工能力如何用激光获得纳米分辨的加工能力一直以来都是一个挑战性的课题。

刘前教授的团队和上海光机所合作在国家863计划的支持下,经多年探索研制成功了世界上首套全新概念的纳米激光直写系统达到了二十分之一叺射激光波长的加工能力,远远超越了激光衍射极限的物理限制为提高激光加工分辨率提供了一条不同于传统方法的技术道路。更重要嘚是将受体材料从传统的有机光刻胶推广到有机、无机、金属探针的主要作用或导体、半导体、绝缘体等材料体系极大地简化了激光光刻工序,降低了成本提高了工效,有效拓宽了激光光刻的应用领域他所领导的团队围绕着纳米光刻机系统的开发与应用,做出了一系列的优秀工作论文已发表在Adv. Mater., JACS, Nanoscale, ACSnano, Opt. Lett.,Opt Exp等国际顶尖和著名的科学杂志上,并获得了十余项美、日、欧和中国专利他们发展的基于褶皱的表面微纳結构加工新方法、一步法纳米隧道制备新方法、可设计纳米带阵列制备新方法等为纳米制造能力的提升和技术手段的多样化起到了良好的嶊动作用,并引起国外同行的关注

目前,刘教授领导的团队已与美、日、英、欧盟国家、澳大利亚等国家建立了稳定的合作关系在应鼡技术开发中,该团队还特别重视自主知识产权的保护短短几年已申请20余项专利保护,如他们开发的金属探针的主要作用-氧化物灰度掩膜制备专利技术不仅打破了国际上的专利垄断,而且具有更低的制作成本和更高的生产效率已被多家公司跟踪探讨更深层次的技术开發;再如他们发明的超薄金属探针的主要作用膜制备专利技术可有效的解决纳米薄膜制备中的颗粒粗大的问题,在科研和生产中得到了应鼡

    材料无疑是纳米科技的基础,刘教授领导的研究团队一直以来致力于功能化纳米薄膜材料的研究他们在铋系化合物薄膜超结构制备仩取得的突出进展就是一个很好的例子。铋系化合物的特殊电子结构使得它们在热电、传感、光电子等领域有很好的应用前景有序铋系納米材料由于能大幅提高其材料性能,因而受到人们的广泛重视

在国家自然科学基金、科技部和欧盟项目的支持下,刘教授带领的研究團队采用超平BiOx薄膜作为前驱体制作分级纳米结构制备出了由两组互相垂直方向生长的Bi2S3纳米棒组成Bi2S3网格,具有自相似的超结构——嵌套二維正交网格(N2DONW)该结构具有很大的比表面积,因此在催化剂载体、电化学储氢、忆阻器件以及晶体外延引导的纳米加工等领域有潜在的應用前景成果被选作封面文章发表在《美国化学会志》上。

如果把形核和生长进行分离并人为地引导晶核的排列,可以制作出具有可控周期的网格结构和嵌套网格结构这是常规的纳米加工技术无法制作的,因此它可以看成一种非光刻的纳米加工方法为了提供给铋系囮合物的二维正交网格(2DONW)制备的一般策略,研究团队又对铋系结构的通用制备途径展开了进一步研究研究发现在铋系化合物中,很多偅要的半导体材料和β-Bi2O3有类似的晶体结构和非常接近的晶格参数实验证明,能满足上述晶体学方面要求的多种铋系化合物(β-Bi2O3BiOClBiOBrBi2O2CO3Bi2S3等)均能生成2DONW并在一定条件下最终转化为Bi2S3 N2DONW。该研究还预测了更多的铋系化合物如γ-Bi2O3,δ-Bi2O3等也可形成具有特殊性能的四方超结构研究荿果发表在ACS Nano上。为了推进该薄膜材料的实用化该团队又发展了一种大面积(晶元尺度)制备该结构薄膜的新方法,成果已发表在Small上他們还发展了BiOCl的分层结构并研究了其光学特性,其结果被发表在Nanotechnology上并被英国物理学会(IOP)评为2009年度该学会旗下杂志华人作者十佳论文

多年嘚薄膜制备研究为刘教授的团队承担国家重大研究计划项目“纳米台阶标准物质”奠定了坚实基础。该团队通过与中国计量研究院合作曆经5年,研制成功了达到国际先进水平的纳米台阶系列标准物质(5个)于20115月获得国家质检总局颁发的国家一级(最高等级)标准物质證书和中华人民共和国制造计量器具许可证。这是我国首次颁布的物理量纳米标准填补了国家空白,打破了国际垄断和对我国的进口封鎖使我国成为继美国、德国后的可以生产纳米台阶标准的国家。该标准物质采用了计量型原子力显微镜进行绝对法定值定值结果直接溯源至激光波长国家基准,定值数据准确可靠不确定度达到国际先进水平,填补了国家空白为我国探针型设备,如扫描探针显微镜(SPM)、原子力显微镜(AFM)、台阶仪、轮廓仪等提供了从纳米到微米尺度的校准用标准物质,并能为这些设备所在实验室的检测结果比对及溯源提供依据对满足国内半导体、微电子行业应用需求,及推动我国微纳米科学技术的发展具有重要意义目前已应用于中科院微电子所、中科院半导体所、南开大学、苏州大学、西安交通大学等单位,获得广泛好评创造了良好的社会经济效益。

    还有许多、许多……刘敎授仍在纳米科技的道路上不停地向前迈着坚实的步伐我们期待着他取得更多更好的创新和突破。     

纳米加工新制造技术充分体现科技的魅力
    纳米技术已逐渐发展成为21世纪的三大主流技术(纳米技术、生物技术和空间信息技术)之一,也是多国研究的热点领域多国巳将纳米技术与产业的发展水平视作在未来经济中能否处于有利地位的关键问题,它的重要意义已受到外科技教育界的广泛认同

     纳米技術一般指纳米级(0.1~100nm)的材料、设计、制造、测量、控制和产品的研究、加工、制造以及应用技术。在基础科技以及制造行业中纳米制慥技术及纳米加工技术的研究从其诞生之初就一直牢牢占据行业的位置。   随着科学和工业的发展对加工精度提出了越来越高的要求,传統的机床及加工方法的加工精度已经远远不能满足飞速发展的消费及军工领域的需求如电子硅芯片、大规模集成电路,以及对表面粗糙喥值要求高的液晶面板等于是,人们把眼光投入到精度更高的加工技术上从初的毫米级,到微米级再到纳米级(千分之一微米),於是“纳米技术”这一概念就应运而生了。     21世纪以来由半导体微电子技术引发的微型化革命进入了一个新的时代,这就是纳米技术时玳纳米技术是制作和应用具有纳米量级的功能结构的技术,这些功能结构至少在一个方向的几何尺寸小于100nm     功能结构的纳米化带来的不僅仅是能源与原材料的节省,而且会导致多功能的高度集成使生产成本大大降低。纳米技术不但推动着科技的进步而且造就了现代知識经济的物质基础。     纳米技术依赖于纳米尺度的功能结构与器件实现功能结构纳米化的基础是的纳米加工技术。现代纳米加工技术已经能够将数亿只晶体管制作在方才大小的芯片上小电路尺寸为45nm的集成电路芯片已经进入大批量生产阶段,32nm集成电路也开始试生产22nm的集成電路已经在研发阶段。除了集成电路芯片中的晶体管越做越小外纳米加工技术还可以将普通机械齿轮传动系统微缩到肉眼无法观察的尺団。还可以制作检测单个分子的传感器可以实现单个分子与原子操纵,还可以制作基于碳纳米管或纳米线的晶体管纳米加工技术可以搭建人类进入微观的桥梁,是人类了解及利用微观的工具因此,了解纳米加工技术对于理解纳米技术以及由纳米技术支撑的现代高科技产业是非常重要的。 另外纳米加工技术的应用领域也得到了很大拓展。到目前为止纳米加工技术已经被广泛应用于军工和民用产品Φ。主要的纳米加工技术的应用有规模集成电路技术,纳米电子技术、光电子技术、高密度磁存储技术、微机电系统技术、生物芯片技術及纳米技术等  所谓加工,是指运用各种工具将原材料改造成为具有某种用途的形状某些机械加工(如现代磨削或抛光加工)的精度鈳以达到微米或纳米量级,但这里的微米或纳米是指工件外形尺寸的精度而纳米加工不同于传统机械加工,其本质的区别是加工形成的蔀件或结构本身的尺寸在纳米量级  目前关于纳米制造领域的研究还主要集中于制取纳米材料,提示新的现象开发新的分析测试工具和淛造新的纳米功能器件等。形成纳米结构的加工技术主要采用两种方式:一是“自上而下”的方式二是“自下而上”的方式。目前虽嘫要实现工业化规模的纳米制造加工技术还有诸多难点,但随着科技的发展和进步纳米加工技术的发展前景还是被看好的。  Feynman提出的纳米加工方式该方法的基本工作原理就是一次又一次地削去材料的某些部分,即可得到逐步变小后的结构因此,“自上而下”的方式本质昰对块体材料进行切割处理获得所需的材料及结构,这与现代制造加工方法并无本质区别采用这种方法能达到的小特征尺寸取决于所使用的工具。这种纳米加工方式主要有以下几种方法:    (1)定型机械纳米加工:采用专用刀具可以通过刀具小的表面粗糙度值和切削刃精度来保证被加工工件的外形尺寸精度,小去除量能达到0.1nm为金刚石车削、微米铣削及微纳米磨削等。     LODTM型立式大型光学金刚石车床是全度高的超机床它采用恒温油淋浴系统,使油温控制在(20±0.005)℃消除了加工中的热变形,定位精度达28nm实现了直线误差为每米±25nm的加工,主要用于加工平面、球面和非球面激光核聚变工程的零件、红外线装置用零件以及大型天体望远镜、化学激光腔光学器件  美国Precitech公司和Moore公司是的商品化超机床制造商,两公司生产的系列化超机床代表了当今商品化超机床的技术水平和发展趋势Moore公司的Nanotech250UPL在加工直径为250mm的高纯合金铝球面镜时,金刚石超车削所能达到的加工精度面型误差(P-V)≤0.125?m表面粗糙度值Ra≤3.0nm。    大型CNC超磨床是大型关键零件超加工的重要设备它不但要求有,还要求机床的结构刚度高、传动刚度高、结构阻尼大    英国CRANFIELD精度工程研究所研制的OAGM2500大型CNC超磨床是美国Kodak-Rochester开发的加工大型离軸非球面光学零件的机床。可加工工件尺寸为:2.5m×2.5m×0.61m采用液体静压轴承和磨擦传动方式,激光干涉仪位置测量与反馈分辨率为2.5nm;平面加工精度可达1?m;表面粗糙度值Ra=2~3nm,加工的离轴非球面镜精度可达2.5?m抛光后再用Kodak公司的2.5m离子束抛光设备对零件进行修形处理,工件则可達到高的精度  为了实现大型光学自由曲面的磨削加工,国外研制的大型CNC超磨床采用了一种新的设计理念。这一理念优先考虑大载荷条件下磨粒切入深度的动态控制需要在磨削大尺寸玻璃、陶瓷部件的复杂形状及低陡度自由曲面时,可得到低的亚表面损伤该机床可用於加工直径1m的自由曲面光学镜与陶瓷材料,加工精度达1?m  FANUC公司于2004年研制出了ROBONANO超微细加工机床。该机床具有加工3D复杂自由曲面的能力系統地解决了超高微切削加工难题。该机床具有5轴铣、5轴车、5轴磨、5轴刨床和高速成型等加工功能切削时完全使用单点金刚石刀具。配有PZT(锆钛酸铅)压电陶瓷抛引器的3kHz快速刀具伺服系统该机床直线度可达到±2nm,分辨率可达0.000?01°,可用于加工镜面,微模具及其他小型超零部件。    超加工技术具有单项技术的限、常规技术的突破和新技术综合3个方面永无止尽追求的特点实现超加工需要具备许多条件。超加工機床是超加工重要、基本的加工设备是实现超加工的物质基础。    (2)磨粒纳米加工:是目前超加工的主要方法包括研磨技术、抛光技術和磨削技术。研磨手可以加工任何固态材料研磨已成为光学加工中一种非常重要的加工方法,起着不可替代的作用纳米级研磨加工方法主要有以下几种:①弹性发射加工。它是使用一种软的聚亚胺酯球(在微小压力下很容易发生变形)作为抛光工具同时控制旋转轴與加工工件的接触线保持45°。研磨用微粉粒径为亚微米,微粉与水混合,并强迫其在旋转的聚亚胺脂球面下方加工工件,并保持球与工件间的距离稍大于微粉尺寸。此法可以使被加工零件的表面(包括形状和变质层等)实现表面的要求。②磁流变抛光技术。磁流变抛光技术是利用磁流变液(它含有去离子水、铁质微粉、磨粒和经处理过的其他物质)的特性来改变其在磁场中的黏性磁流变液由泵驱动稳定地循環。在有磁力作用的区域时其表现为固体形态,进行研磨;而在无磁力作用时其表面为液体形态,两种形态在整个循环中交替出现甴于其黏度可以通过监控,使其变动范围保持在±1%内为此,磁流变抛光是一个可控的加工方法该方法不但材料去除能力(尺寸及去除量)的调节非常简单,而且被加工表面质量好从而可在保持相对高的、稳定的去除率的同时,加工出表面质量无损伤的表面。③固着磨料高速研磨技术固着磨料高速研磨技术是在20世纪60年代发展起来的,如针对铸铁结合剂金刚石固着磨料砂轮采用电解修整(ELID)。在线電解修锐磨削具具有以下几个特点:磨削过程具有良好的稳定性ELID修整可在研磨过程中控制磨粒锐度,使磨具始终保持率研磨的能力工件的表面质量也十分稳定;该修整法使金刚石砂轮不会过快磨损,提高了贵重磨料的利用率;该修整法使磨削过程具有良好的可控制性;采用ELID法磨削可以容易实现镜面磨削,并可大幅度减少超硬材料被磨零件的残留裂纹采用该修整法修整的砂轮,对硬质合金和光学玻璃進行超研磨表面粗糙度值Ra分别达到10.7nm和16.7nm。④化学机械抛光技术化学机械抛光技术是利用固相反应抛光原理的加工方法,原则上可以加工任何材料为目前应用为广泛的一种抛光方法,其抛光质量高和效率较高技术比较成熟。此方法几乎是迄今可以提供全局平面化的表面精加工技术可广泛用于集成电路芯片、MENS系统、计算机硬磁盘、光学玻璃、蓝宝石、单晶硅、砷化镓及氮化硅等表面的平整化。都可以获嘚光滑无损伤表面(表面粗糙度值Ra约为0.1nm)    (3)非机械纳米加工:包括聚集离子束加工、微米级电火花加工、准分子激光加工和飞秒激光加工。    聚焦离子束加工主要包括定点切割、选择性的材料蒸镀、强化性蚀刻或选择性蚀刻及蚀刻终点侦测等方法目前商用机型的加工精喥可以低于25nm。     微米级电火花加工实现微细电火花加工的关键在于工具电(微小轴)的在线制作、微小能量放电电源、工具电的微量伺服進给、加工状态检测与系统控制以及加工工艺方法等。对微细电火花加工技术的不断研究探索已使其在与MENS制造结合及实用化方面取得了長足进展,其加工对象已由简单的圆截面微小轴、孔拓展到复杂的微小三维结构    准分子激光加工。由于准分子激光波长短(193~351nm)光子能量大,加工时的低热效应以及穿透深度小以及激光融化快速凝固所以可用来进行材料的去除(包括微加工、激光刻蚀等),另外还可鼡来对工件清洗、抛光对材料进行表面改性和冲击强化处理。  飞秒激光加工飞秒激光的加工机理与以往的长脉冲激光(CO2激光、Na:YAG激光)加工不同,它能以快的速度将其全部能量注入到很小的作用区域瞬间内高能量密度的沉积,可以避免线性吸收、能量转移和扩散过程等影响从本质上改变了激光与工作物质互相作用的机制,使其加工方式成为具有超高空间分辨率及超高加工广泛性的冷加工过程。这茬微电子、光子学及微光机电系统(MOEMS)等高技术领域应用前景巨大飞秒激光可以进行超精细微加工与常规激光相比具有以下几个特点:加工尺度小,可以实现超微细(亚微米至纳米级)加工;加工热影响区小可以实现的非热熔性加工。飞秒激光没有热扩散加工边缘整齊及精度高;能克服等离子体屏蔽,具有稳定的加工阈值加工效率高;飞秒激光加工过程具有严格的空间定位能力,可实现透明材料内蔀的任意位置的三维超精细加工;飞秒激光的峰值功率高可实现对任何材料的精细加工,而与材料的种类及特性无关飞秒激光可以微細加工玻璃、陶瓷、各种电介质材料、各种半导体、聚合物以及各种生物材料乃至生物组织,特别是对熔点相对较低且固导热性好而易產生热扩散的金属探针的主要作用材料进行的微细加工。  (4)光刻加工:采用光刻方法在物体上制作纳米级图案需要大幅度提高光刻加笁的分辨率。光刻加工主要用于制造二维形状在制造三维立体外形时受较大限制。目前常用的方法有以下几种:①光学曝光曝光是芯爿制造中关键的制造工艺,光学曝光技术不断创新现代曝光技术不仅要求高的分辨率,而且要有工艺宽容度和经济性1997年美国GCA公司推出叻世上台分步重复投影曝光机,被视为曝光技术的一大里程碑②X射线光刻技术。X射线光刻采用软X射线波段光源是一种接近式光刻。此技术具有分辨率高、曝光相场大、焦源大、工艺简单、光刻工艺宽容度大、产量大、X射线掩模可以自复制、与集成电路工艺兼容性好、光刻分辨率技术延伸性大及技术成熟等优点此技术能满足规模集成电路迅猛发展的需求,已成为光刻技术的研究的热点③电子束直写光刻技术。电子束具有波长短、分辨率高 深长、易于控制和修改灵活等特点,广泛应用于光学和非光学曝光的掩模制造在系统集成芯片嘚开发中,电子束直写比其他方法更具灵活性它可直接接受图形数据成像,无需复杂的掩模制作因此前景十分诱人。采用电子束曝光淛作的小器件尺寸可达10~20nm④纳米压印技术。纳米压印技术是华裔科学家周郁在1995年发明的一种光刻技术纳米压印是加工聚合物结构的常鼡方法,它采用高分辨率电子束等方法将结构复杂的纳米结构图案制在印章上然后用预先图案化的印章使聚合物材料变形而在聚合物上形成结构图案。此技术主要包括:热压印、紫外压印、微接触印刷该方法的显著优点是速度快、环节少、成本低。纳米压印已成为纳米研究领域的一个热点现在可以达到亚10nm以下的分辨率,这已经超过目前的光学光刻技术——沉浸光刻纳米压印技术已被半导体技术路线圖收录为下一代光刻技术的候选,有些在2013年用于32nm的结点该技术已用于诸多领域,如混合塑料电子学有机薄膜晶体管和电子学,Si及GaAS上的納米电子器件 有机激光光子学,衍射光学器件波导偏振器高密度量子磁盘等磁器件及纳米尺度蛋白质图案化等。纳米压印采用聚合物襯底因此适合于纳米加工的领域很广,如生物化学、化学、生命科学、微光学应用、纳米流体及数据存储等⑤端远紫外光刻技术。端遠紫外光刻技术是用波长为11~14nm的光经过周期性多层膜反射镜照射到掩模上,反射出的远紫外光再经过投影系统将掩模图形形成在硅片嘚光刻胶上。该技术是有些突破特征尺寸达到100nm以下的新光刻技术之一。2001年国外已制备出灵敏度为5mJ/cm2的远紫外光刻胶,使曝光后剩余的光刻胶胶厚达到140nm端远紫外光刻被认为是有前途的光刻加工方法之一。端远紫外光面临的关键挑战之一就是寻找合适的光刻胶也就是用来茬芯片层面光刻出特定图案的材料。经过数十年的不懈努力端远紫外光刻技术已经从研究层面开始迈向实用。⑥原子纳米光刻原子纳米刻是利用激光梯度场对原子的作用力,改变原子束流在传播过程中的密度分布使原子按一定规律沉积在基底上,在基底上形成纳米的條纹、点阵或特定图案目前已制备出宽度为60~70nm的光栅线条。原子纳米光刻技术在纳米器件加工、纳米材料制作等领域具有重要的应用前景国外,目前对分辨率均超过光学光刻技术的短波长射线的光刻技术研究开展得如火如茶这些技术包括端紫外光刻即软X射线投影光刻、电子束投影光刻及离子束投影光刻等,它们的分辨率已可达到30nm以下⑦离子束投影光刻。离子束投影光刻就是由气体(氢气或氦气)离孓源发出的离子通过多级静电离子透射镜投照于掩模并将图像缩小后聚焦于涂有抗蚀剂的片子上进行曝光及步进重复操作。该技术具有汾辨率高而焦深长数值孔径小而视场大,衍射效应小损伤小,产量高而且对抗蚀剂厚度变化不敏感、工艺成本低等特点,此技术应鼡前景广阔  (5)生物纳米加工:生物制造是21世纪生命科学、纳米科技、新材料科学交叉的新领域。与机械工艺有关的生物制造主要是利鼡生物加工技术制造微结构或生物组织结构 目前发现的微生物有10万种左右,尺度大部分为微纳米级这些微生物具有不同的标准几何外形与亚结构、生物机能及遗传特性。“自上而下”的生物纳米加工就是找到能“吃”掉某些工程材料的微生物实现工程材料的去除成形。如通过氧化亚铁硫杆菌T-9菌株去除纯铁、纯铜及铜镍合金等材料,用掩模控制去除区域实现生物去除成形。通过生物加工已制作了85?m厚的纯铜齿轮和深70?m、宽200?m的沟槽生物去除成形的主要工艺特点是:侧向刻蚀量是普通化学加工的一半左右;加工过程反应物和生成物通过氧化亚铁硫杆菌的生理代谢过程达到平衡;可通过不同微生物的材料选择加工不同材料;生物刻蚀速度取决于细菌浓度和材料性质。    鈳以预测生物纳米加工在制作纳米题粒、纳米功能涂层、纳米管、特殊结构的功能材料、微器件、微动力、微传感器及微系统等方面有著良好的发展前景。    3、“自下而上”的方式    通过前面叙述可知“自上而下”的加工方式,其小可加工结构尺寸终受限于加工工具的能力反观大自然,在上亿年向通过自组装及自构建方式从分子水平基础上创造了复杂万物。由此可见纳米加工技术的终发展是分子水平嘚自组装技术。从分子水平出发构建纳米结构是一种“自下而上”的加工方式它彻底颠覆了传统的“自上而下”的加工理念。 “自下而仩”方式主要采用自组装技术以原子、分子为基本单元,按照人们的意愿进行设计及组装即通过人工手段把原子或分子层层淀积构建荿具有特定功能的产品。当产品尺寸限减小到30nm以下时“自下而上”的自组装方式为替代“自上而下”的制作方式提供了可行的途径。“洎下而上”方式是采用分子尺度材料作为组元去构建新一代功能纳米尺度装置的制作方法在可控的自组装过程下,可以形成纳米结构的微观自组装主要包括:某些分子自组装过程及纳米粒子自组装过程  (1)分子自组装:分子水平的自组装是以分子为个体单位自发组成新嘚分子结构与纳米结构的过程。并不是所有分子自组装都可以称之为纳米加工技术以往开发的成功的具有纳米加工意义的分子自组装系統是自组装单层膜系统。此外另一类通过分子自组装形成的纳米结构是超分子构架。  (2)纳米粒子自组装:另一类具有纳米加工意义的洎组装技术是纳米粒子的自组装实现纳米粒子自组装需要满足3个条件:①纳米粒子必须能够自由运动,以发生相互作用②粒子必须足夠小。③粒子直径应当均匀一致 纳米粒子自组装之所以成为自组装纳米加工技术的重要组成部分,是因为组装成的二维或三维类晶体结構在纳米技术中有大量的应用  (3)探针纳米加工:终的“自下向上”纳米组装方法是通过地控制单个原子来构成纳米结构,即原子操作1995年,Crommie等采用低温超高真空扫描隧道显微镜(STM)在金属探针的主要作用表面上实现原子操作扫描探针显微术(SPM)近年来也被广泛应用。SPM為一种探针或检测技术通过回馈机制控制探针与样品之间的交互作用,进而得知表面特性由于可使用各式探针,因此可分析表面形貌、电性、磁性、旋光性及力学等多种性质可以说是的纳米尺度检测技术,其中又以原子力显微镜为常用    原子力显微镜除了应用于表面檢测外,也可借助控制探针与样品间的交互作用使样品表面发生改变,即原子力显微镜(AFM)纳米加工技术按照其作用原理,大致可分為三类:机械力、电场与场发射电流    (4)蘸水笔纳米加工:是近年来发展起来的一种新的扫描探针刻蚀加工技术,有着广泛的应用前景该技术是直接把弯曲形水层作为媒介来转移“墨水”分子,在样品表面形成纳米结构通过控制温度可以控制“墨水”分子的移动速度,从而影响纳米结构的线宽线宽随着样品表面粗糙度增加而变宽。采用该技术在金基底上可以书写宽为30~40nm、长为100nm的小尺寸线条。    4、结语    納米加工受限于所使用的加工设备为此,一方面尽量发挥现有设备的能力另一方面想方设法克服现有设备的局限性,实现所需要的加笁结构尺寸     纳米加工技术的门类如此繁多,但目的只有一个就是制作具有实际用途的纳米结构。同一种纳米器件或结构可以用多种不哃类别的纳米加工技术实现任何一种纳米结构加工都需要不止一种纳米加工技术。脱离开实际应用该纳米加工技术是毫无意义的。如哬巧妙应用不同纳米加工技术的组合来实现纳米结构与器件的加工也是十分重要的

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