氧化铋薄膜的制备及退火温度对其物相和表面形貌的影响--《机械工程材料》2013年02期
氧化铋薄膜的制备及退火温度对其物相和表面形貌的影响
【摘要】：采用传统陶瓷烧结工艺,制备了直径为50 mm、厚度为3 mm的Bi_2O_3陶瓷靶,利用该陶瓷靶和射频磁控溅射技术在Si(111)基体上制备了氧化铋薄膜,研究了溅射压力为0.8 Pa时的氧分压对薄膜物相的影响,并探讨了退火温度(350～550℃)对薄膜的物相和表面形貌的影响。结果表明:随着氧分压从0增大到0.36 Pa,薄膜由BiO相逐渐变成α-Bi_2O_3相;随着退火温度的升高,薄膜中出现了新的物相,仍为多相结构,不同相的衍射峰半高宽变化有增有减;薄膜的晶粒尺寸随退火温度的升高而增大。
【作者单位】：
【关键词】：
【基金】：
【分类号】：TQ174.1;TB43【正文快照】：
0引言氧化秘(BiZ 03)的晶体结构中含有大量的氧空位，可用来制造各种固体氧化物燃料电池和氧传感器等。同时，Bi20:也是化学电源中常用的活性物质，如作为无锌电池优良的缓蚀剂、铿离子电池的电极材料以及改善碱性Zn/Mn(〕:电池可充电性能的添加剂等仁’一2〕。Bi:0。主要有4
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