金属靶材 合金靶材 陶瓷靶材 靶材相关服务 - 技术文献
金属靶材 合金靶材 陶瓷靶材 靶材相关服务
金属靶材 合金靶材 陶瓷靶材 靶材相关服务
溅射镀膜工艺经过近些年的发展，对于各种材料的镀膜工艺已经非常完善。本中心提供全系列溅射镀膜靶材（包括金属靶材，合金及中间合金靶材，陶瓷靶材）给各大专院校，科研机构，工矿企业。
&磁控溅射靶材成型方法：熔点比较低的材料一般采用真空熔炼后浇铸成型，材料的成型方式根据产品性能和客户的不同要求进行选择。一般金属和合金材料产品熔点比较低时，采用真空熔炼后浇铸，再进行锻轧等工艺消除气孔，当然有效的热处理细化晶粒均匀材质是非常必要的。熔点高的材料（或脆性大的材料）采用热压，或热等静压成型，也有些采用冷等静压成型然后烧结。本公司提供的各种靶材，密度高，晶粒均匀，使用寿命长等优势。
溅射镀膜应用领域： 溅射镀膜应用领域非常广泛，主要用于包装镀膜，装饰镀膜，建筑玻璃镀膜、汽车玻璃镀膜、低辐射玻璃镀膜，平面显示器，光通讯/光学工业，光数据存储工业，光数据存储工业，磁数据存储工业光学镀膜，半导体领域，自动化，太阳能，医疗，自润滑膜层，电容器镀膜，其它功能性镀膜等背板供应，邦定服务：本中心提供各种靶材背板，包括无氧铜，钼，铝，不锈钢等材料。同时提供靶材与背板的焊接服务。背板供应：无氧铜、铝、钛、不锈钢、钼背板。
金属化处理：
邦定服务：
磁控溅射靶材分类清单：
1. 金属溅射镀膜靶材(单一元素靶材，超高纯金属靶材)：工艺一般采用熔炼和粉末冶金的方法制作，然后进行锻造，轧制，热处理，机械加工等工艺。我公司完成的各类金属靶材产品，选材适当，材质均匀，晶粒细小，品质稳定，价格合理。我公采用先进的冷坩埚磁悬浮技术，熔炼靶材纯度最高达到99.999%，冶炼过程中完全避免了污染现象。
尺寸规格：
圆片靶，圆柱靶，台阶圆靶（(直径 &600mm， 厚度 &1mm）
矩形靶，薄片靶，台阶片靶 (长度 &1000mm， 宽度 &600mm， 厚度 &1mm)
环状靶，管状靶( 外径& 300mm， 壁厚 &2mm )
金属铝，金属锑，金属铋，金属镉，硼靶材，碳靶材，热解石墨靶材，稀土金属铈，金属铬靶材，金属钴，金属铜，稀土金属镝，稀土金属铒，稀土金属铕，稀土金属钆，半导体锗，黄金靶材，金属铪，稀土金属钬，金属铟，金属铱靶材，金属铁，金属镧，金属镥，金属镁，金属锰靶材，难熔金属钼，稀土金属钕，金属镍，难熔金属铌，贵金属钯，贵金属铂，金属镨，金属铼，贵金属钌，金属钐，硒靶材，金属钪，金属银靶材，金属硅，难熔金属钽，稀土金属铥，金属锡，金属钛，难熔金属钨，金属钒，稀土金属镱，稀土金属钇，金属锆，金属锌。
2. 合金靶材，中间合金靶材：合金及中间合金靶材工艺一般采用熔炼和粉末冶金的方法制作，然后进行锻造，轧制，热处理，机械加工等工艺。每种合金一般拥有特殊的性能，本中心合金靶材制作工艺精良，品质优异，价格合理。
尺寸规格：圆片靶，圆柱靶，台阶圆靶（(直径 &600mm， 厚度 &1mm）
矩形靶，薄片靶，台阶片靶 (长度 &1000mm， 宽度 &600mm， 厚度 &1mm)
管状靶( 外径& 300mm， 壁厚 &2mm )（点击进入详细参数列表）
合金溅射镀膜靶材 铝铜合金 (Al-Cu)，铝就铬合金(Al-Cr)，铝镁合金(Al-Mg)，铝硅合金 (Al-Si)，铝银合金 (Al-Ag)，铈钆合金 (Ce-Gd)，铈钐合金 (Ce-Sm)，铬硅合金(Cr-Si)，钴铬合金 (Co-Cr)，钴铁合金 (Co-Fe)，钴铁硼合金(Co-Fe-B)，铜钴合金(Cu/Co)，铜镓合金(Cu-Ga)，铜铟合金 (CuIn)，铜镍合金(Cu-Ni)，铜锆合金（Cu-Zr)，铪铁合金(HfFe)，铁硼合金 (Fe-B)，铁碳合金 (Fe-C)，铁锰合金 (Fe-Mn)，铱锰合金(Ir-Mn)，铱铼合金(Ir-Re)，铟锡合金 (In-Sn)，钼硅合金 (Mo-Si)，镍铝合金(Ni-Al)，镍铬合金 (Ni-Cr)，镍铬硅合金 (Ni-Cr-Si)，镍铁合金 (Ni-Fe)，镍铌钛合金 (NiNbTi)，镍钛合金 (Ni-Ti)，镍钒合金 (Ni-V)，钐钴合金 (Sm-Co)，银铜合金 (Ag-Cu)，银锡合金(Ag-Sn)，钽铝合金(Ta-Al)，铽镝铁合金 (TbDyFe)，铽铁合金(TbFe)，钛铝合金靶材(TiAl)，钛镍合金 (TiNi)，钛铬合金 (TiCr)，钨铼合金(WRe)，钨钛合金(WTi)，锆铝合金(ZrAl)，锆铁合金 (Zr-Fe)，锆镍合金 (Zr-Ni)，锆铌合金(ZrNb)，锆钛合金(ZrTi)，锆钇合金 (ZrY)，锌铝合金(ZnAl)，锌镁合金(ZnMg)。
3. 陶瓷靶材，金属化陶瓷靶材：艺一般采用熔融和粉末冶金的方法制作
尺寸规格：
圆片靶，圆柱靶，台阶圆靶（(直径 &300mm， 厚度 &1mm）
矩形靶，薄片靶，台阶片靶 (长度 &600mm， 宽度 &300mm， 厚度 &2mm)
管状靶( 外径& 300mm， 壁厚 &3mm ) （点击进入详细参数列表）
硼化物陶瓷溅射靶材 硼化二铬 (Cr2B)，硼化铬 (CrB)，二硼化铬 (CrB2)，三硼化五铬 (Cr5B3)， 硼化铁 (FeB)，二硼化铪陶瓷靶材 (HfB2)，六硼化镧 (LaB6)，硼化二钼 (Mo2B)，五硼化二钼 (Mo2B5)，硼化铌 (NbB)，二硼化铌 (NbB2)，硼化钽 (TaB)，Tantalum Boride (TaB2)，二硼化钛(TiB2)，硼化二钨 (W2B)，硼化钨 (WB)，硼化钒 (VB)，二硼化钒 (VB2)，二硼化锆 (ZrB2) 。
碳化物陶瓷溅射靶材 碳化四硼(B4C)，二碳化三铬 (Cr3C2)，碳化铪(HfC)，碳化二钼 (Mo2C)，碳化铌 (NbC)，碳化硅陶瓷靶材 (SiC)，碳化钽 (TaC)，碳化钛(TiC)，碳化钨 (WC)，碳化二钨 (W2C)，碳化钒 (VC)，碳化锆 (ZrC)
氮化物陶瓷溅射靶材 氮化铝陶瓷靶材 (AlN)，氮化硼陶瓷靶材 (BN)，氮化镓陶瓷靶材(GaN)，氮化铪陶瓷靶材(HfN)，氮化铌陶瓷靶材 (NbN)，氮化硅陶瓷靶材 (Si3N4)，氮化钽陶瓷靶材 (TaN)，氮化钛陶瓷靶材 (TiN)，氮化钒陶瓷靶材 (VN)，氮化锆陶瓷靶材 (ZrN)。
氟化物陶瓷溅射靶材 氟化铝(AlF3)，氟化钡 (BaF3)，氟化镉 (CdF2)，氟化钙 (CaF2)，氟化铈 (CeF3)，氟化镝 (DyF3)，氟化铒(ErF3)，氟化铪 (HfF4)，氟化钾 (KF)，氟化镧 (LaF3)，氟化铅(PbF2)，氟化锂(LiF)，氟化镨 (PrF3)，氟化镁(MgF2)，氟化钕 (NdF3)，氟化钐 (SmF3)，氟化钠（NaF)，铝氟酸钠(冰晶石)靶材(Na3AlF6)，氟化锶(SrF2)，氟化钍 (ThF4)，氟化钇 (YF3)，氟化镱(YbF3)。
氧化物陶瓷溅射靶材氧化铝 (Al2O3)，氧化锑(Sb2O3)，氧化锑掺锡(ATO)，钛酸钡(BaTiO3)，氧化铋(Bi2O3)，氧化铈(CeO2)，氧化铜(CuO)，氧化铬(Cr2O3)，氧化镝(Dy2O3)，氧化铒(Er2O3)，氧化铒(Eu2O3)，氧化钆(Gd2O3)，氧化镓(Ga2O3)，氧化锗GeO2)，二氧化铪(HfO2)，氧化钬(Ho2O3)，氧化铟(In2O3)，氧化铟锡(ITO)，三氧化二铁(Fe2O3)，四氧化三铁(Fe3O4)，氧化镧(La2O3)，钛酸铅(PbTiO3)，锆酸铅(PbZrO3)，铌酸锂(LiNbO3)， 铁酸镥(Lu3Fe5O12)，氧化镥(Lu2O3)，氧化镁(MgO)，氧化钼(MoO3)，氧化钕(Nd2O3)，氧化镨(Pr6O11)，钛酸镨(Pr(TiO2)2)，氧化镨(Pr2O3)，氧化钐(Sm2O3)，氧化钪(Sc2O3)，二氧化硅(SiO2)，一氧化硅(SiO)，钛酸锶(SrTiO3)，锆酸锶(SrZrO3)，五氧化二钽(Ta2O5)，氧化铽(Tb4O7)，氧化碲(TeO2)，氧化钍(ThO2)， 氧化铥(Tm2O3)，二氧化钛(TiO2)，一氧化钛(TiO)，五氧化三钛(Ti3O5)，三氧化二钛陶瓷靶材(Ti2O3)，二氧化锡(SnO2)，一氧化锡(SnO)，三氧化钨(WO3)，五氧化二钒(V2O5)，钇铝石榴石(YAG)Y3Al5O12，三氧化二镱 (Yb2O3)，氧化钇(Y2O3)，氧化锌(ZnO)，掺铝氧化锌(ZnO:Al)，氧化锆(ZrO2)(未掺杂)，氧化钙稳定氧化锆 (ZrO2-5-15wt%CaO)，氧化钇稳定氧化锆（ZrO2：Y2O3)，AZO靶材，ITO靶材，ATO靶材，YSZ靶材。
硒化物陶瓷溅射靶材 硒化铋陶瓷靶材 (Bi2Se3)， 硒化镉溅射靶材 (CdSe)，硒化铟溅射靶材 (In2Se3)，硒化铅溅射靶材 (PbSe)，硒化钼溅射靶材 (MoSe2)，硒化铌溅射靶材 (NbSe2)，硒化钽溅射靶材 (TaSe2)，硒化钨溅射靶材 (WSe2)，硒化锌溅射靶材 (ZnSe)。
硅化物陶瓷溅射靶材 硅化三铬陶瓷溅射靶材 (Cr3Si)，二硅化铬陶瓷溅射靶材 (CrSi2)，二硅化钴陶瓷靶材(CoSi2)， 二硅化铪陶瓷靶材 (HfSi2)，二硅化钼陶瓷靶材 (MoSi2)，二硅化铌陶瓷靶材(NbSi2)，二硅化钽陶瓷靶材 (TaSi2)，三硅化五钽陶瓷靶材 (Ta5Si3)，二硅化钛陶瓷靶材 (TiSi2)，三硅化五钛陶瓷靶材(Ti5Si3)，二硅化钨陶瓷靶材(WSi2)，硅化三钒陶瓷靶材(V3Si)，二硅化钒陶瓷靶材 (VSi2)，二硅化锆陶瓷靶材 (ZrSi2)。
硫化物陶瓷溅射靶材 硫化锑陶瓷靶材(Sb2S3)，硫化砷陶瓷靶材(As2S3)，硫化镉陶瓷靶材 ( CdS)，硫化铁陶瓷靶材 (FeS)，硫化铅陶瓷靶材 (PbS)，硫化钼陶瓷靶材(MoS2)，硫化铌陶瓷靶材(NbS1.75)，硫化钽陶瓷靶材 (TaS2)，硫化钨陶瓷靶材(WS2)，硫化锌陶瓷靶材 (ZnS)。
碲化物陶瓷溅射靶材 碲化镉陶瓷靶材 (CdTe)，碲化铅陶瓷靶材 (PbTe)，碲化钼陶瓷靶材 (MoTe2)，碲化铌陶瓷靶材 (NbTe2)，碲化钽陶瓷靶材 (TaTe2)，碲化钨陶瓷靶材 (WTe2)，碲化锌陶瓷靶材 (ZnTe)，碲化铟陶瓷靶材(InTe)。
其他陶瓷靶材 掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化铟靶材(InP)，砷化铅靶材(PbAs)，砷化铟靶材(InAs)，AZO靶材，ITO靶材，ATO靶材，YSZ靶材，LSMO靶材， LCMO靶，YBCO靶材，YBC靶材。
4. 其他混合物靶材，特殊成分靶材，客户订制靶材：可以根据客户需求，经可行性分析后，进行特殊成分的实验，试制，生产等活动，我中心对客户所有特殊需求进行保密。
尺寸规格：圆片靶，圆柱靶，台阶圆靶（(直径 &300mm， 厚度 &1mm）
矩形靶，薄片靶，台阶片靶 (长度 &1200mm， 宽度 &300mm， 厚度 &1mm)
管状靶( 外径& 300mm， 壁厚 &2mm )
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市场开发部三层增透膜膜料的最佳选择H4 - 技术文献
三层增透膜膜料的最佳选择H4
三层增透膜膜料的最佳选择H4
　　在折射率为1.52的玻璃(BK7)上镀三层增科透膜,最优化的折射率是1.38,1.63,2.10。低，中折射率的膜料比较好的选择是MgF2和Al2O3。然而，高折射率的膜料选择就比较麻烦。
TiO2:由于折射率太高不能被利用。
ZrO2：有比较好的折射率，在接近紫外光，可见光和近红外光有很高的透光率。并且，膜层相当坚硬，牢固。但是，它有两大缺点：一是此材料在蒸镀时只是少量熔化，这使它的再生产时不能获得唯一的分散。二是它经常不能均匀的分散，并且，随着膜厚的增加折射率会降低。因此，在中间波段的反射率会增大。
HfO2:在蒸镀是和ZrO2有类似的情况，但是它在紫外光波段有很好的透光率。缺点是成本过高。
Ta2O5:有理想的折射率，但是，在被加热至沉积温度的过程中为了形成相对稳定的成分，会释放大量的氧气，伴随着压力的增加，会产生大量的喷溅。此外，要得到没有吸收的膜层，必须在沉积 后对膜层做退火处理。
　　H1,H2,H4:这是默克专门研发的产品，有着最优化的特性。
　　H1，H2，H4可以实现所有需要的光学特性：
　　*从接近紫外到近红外的整个波段内有很高的透过率。
　　*在接近紫外和可见光范围内没有吸收。
　　*均匀的膜层
　　*在550nm时的折射率为2.1
　　*在沉积温度时可完全熔化,容易控制
　　*唯一的膜厚
　　H4的特性在表3中被列举.由于在低于沉积温度时就完全熔化,因此,容易控制,并且保证了唯一的膜层.H4比H1及其它膜料的另一个优势在于它可能很轻松的达到所需要的效果。H4在熔化过程中没有放气和溅射发生,因此,氧气和沉积速率的变化对获得的膜层几乎没有影响.这是H4比我们的很受欢迎的H2优越的地方。H4比H2优越的另一个地方是它在400nm以下有很高的透光率.在紫外范围下,吸收边缘为300nm。H4还有很好的经济性:它可以在钼的坩埚嚼舌电子束蒸镀,这免去了昂贵的预热过程。此外,一个熔化可以同时进行几个沉积,并且坩埚中的材料可以不断的被更新,而折射率保持不变。
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