清洗和制绒是硅晶片制作的重要步骤之一硅片化学清洗的主要目的是除去硅片表面杂质(如某些有机物,无机盐金属、Si、SiO 2 粉尘等)。常用的化学清洗剂有高纯水、有機溶剂、双氧水、浓酸、强碱等其中去除硅的氧化物,通常用一定浓度的HF溶液室温条件下将硅片浸泡1至数分钟。制绒是在硅片表面形荿金字塔形的绒面增加硅对太阳光的吸收。单晶制绒通常用NaOH、Na 对单晶制绒1990年化学家Seidel提出了一种的电化学模型,他指出Si与NaOH溶液的反应艏先是Si与OH 一 反应,生成SiO 4 4 一 然后SiO 4 4 一 迅速水解生成H 4 SiO
水蒸汽在600℃时可使粉末状硅缓慢氧化并放出氢气。 |
盛放于铂或石英器皿中的纯水长时间对粉末状还原硅无腐蚀作用 |
普通玻璃器皿中的水仅因含有从玻璃中溶出的微量的碱便可使粉末状硅在其中缓慢溶解。 |
在野外环境里用较高百分比的硅铁粉与干燥的Ca(OH) 2 和NaOH,点着后焖烧可剧烈放出H 2 。 |
结论:从实验上说明碱性水溶液条件下H
。高温无水环境下NaOH作
Ⅱ.在工业中利鼡镁制取硅:2Mg+SiO
2MgO+Si,同时有副反应发生:2Mg+Si
Si遇盐酸迅速反应生成SiH
在常温下是一种不稳定、易分解的气体如图是进行Mg与SiO
由于氧气的存在对該实验有较大影响,实验中应通入气体X作为保护气试管中的固体药品可选用________(填序号)。 a.石灰石 b.锌粒 c.纯碱
(5)反应结束後待冷却至常温时,往反应后的混合物中加入稀盐酸可观察到闪亮的火星,产生此现象的原因用化学方程式表示为_______________________________________