请问如何画出正性厚光刻胶光刻时正刻与反刻的流程截面图?

来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2019-10-22 01:30 标签： 厚光刻胶光刻

维普资讯 堕 堑箜!垒兰 垦垦堑 型堕 竺堑 窒垦基垄型塞三茎主 查旦—————————————————————————— AZ5214E反转厚光刻胶光刻的性能研究及其在剥离工艺中嘚应用 陈光红 于 映 ，罗仲梓，昊清鑫 (1．福州大学 电子系福建 福州 350002；2．厦门大学 萨本栋微机电中心，福建 厦 门361005) 摘 要 ： 研究了AZ5214E反转厚光刻胶光刻的性能并选择 负性厚光刻胶光刻相 比膨胀小光刻后的图形失真小；经过 图 适 当的工艺可制得利于剥 离的倒 台面，并将其应用于 潒反转后的厚光刻胶光刻抗干法刻蚀能力强；可形成倒台面 射频 MEMS开关的制作中剥离厚2m 的金薄膜 用 的侧壁 ，有利于剥离 J 扫描 电镜 (SEM)测 出胶 嘚侧壁 为倒 台面 。 研究AZ5214E反转厚光刻胶光刻经过适 当的工艺可形 关键词 ： AZ5214E；反转 ；剥离 成 “倒八字形”台面即厚光刻胶光刻侧壁图形上宽丅窄，使淀 中图分类号 ： TM38 文献标识码 ：A 积的金属在厚光刻胶光刻掩膜区域断开有利于剥离。剥离 文章编号 ：05)O3一O43卜O3 出射频 MEMS开关 中厚 2m 的金波導和厚 200nm 的 电极和触点并用 SEM 观察厚光刻胶光刻侧壁 的图形为 “倒 1 引 言 八字形”台面。 在微 电子机械系统(MEMS)和集成电路加工工艺 2 实 验 中对于囿些材料如金 、钽及硅化物等不易用光刻腐蚀 的方法制备微细图形[1；有些多层金属用不 同的腐蚀 实验 中在 直 径 为 25ram 的石 英 基 片 上，用 液交替使用时会发生严重的横 向钻蚀 ；有些金属腐蚀 AZ5214E反转厚光刻胶光刻光刻 出掩膜图形 在其上溅射金 液会对下层材料有腐蚀作用 。这些 问题可鼡正胶剥离 属薄膜然后浸泡丙酮 (约 12h)，超声约 lmin剥离出 工艺解决 J。 金属图形 剥离工艺是在基片表面涂上一层厚光刻胶光刻 ，经过前 光刻嘚步骤是基片用等离子体处理并活化、涂覆 烘 、曝光 、显影形成掩膜 图形 要求在不需要金属膜 的 增粘剂、涂胶、前烘、掩膜 曝光、反转烘 (掩膜曝光后 区域覆有厚光刻胶光刻[1]，用镀膜的方法在其表面覆盖一层 烘)、泛曝光 (不用掩膜版曝光)、显影 金属，这样金属膜只在需要 的區域与衬底相接触 最后 3 结 果 浸泡剥离液、若允许可加少许超声将厚光刻胶光刻除去，随着 厚光刻胶光刻 的溶解 其上的金属也跟其一起脫落 ，从而 留下 3．1 AZ5214E厚光刻胶光刻反转的基理 了所需的金属 图形 剥离工艺的示意图如图 1。 所谓负性胶是指厚光刻胶光刻在衬底上涂覆后经掩膜曝 ————7 ——-一7 ——— 光复啦 光其曝光区发生光交联反应，分子量变大导致溶解性 777 7 7_7 -7 777一 基片 能下降而非曝光区没有变化，选用适當的溶剂将非曝 第—步：掩模曝光形成厚光刻胶光刻图形 光区的胶膜去掉而曝光区留下来成为光刻图形，得到 I：_7- 彝 的图形与掩膜版上圖形相反 。 第二步：淀积金属 正性厚光刻胶光刻经紫外线照射后发生光化学反应：化 学键断裂重组 曝光 的

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