飞轮有什么作用表面多孔的原因和作用

本发明专利技术提供一种多孔铜箔的制造方法所述方法包括在金属载体上形成释放层,通过无电镀铜在形成有释放层的金属载体上生长铜岛通过电镀铜形成多孔铜薄層,并从释放层剥离多孔铜薄层


本专利技术涉及多孔铜箔的制造方法及由其制造的多孔铜箔。更具体地本专利技术涉及一种通过在金屬载体上形成铜膜并剥离铜膜来制造铜箔的方法以及通过所述方法制造的多孔铜箔。

技术介绍铜箔被广泛用于作为印刷电路板的导电图案材料、电磁遮蔽材料和散热材料铜箔通过各种处理制造,例如辊压和电镀随着近期电子设备小型化的趋势,对于更精细的图案的要求需要更小厚度的铜箔使用金属载体制备的铜箔在金属载体上形成并剥离。韩国专利No.1422262描述了与超薄铜箔的制造有关的现有技术的一个例子所述专利已经提交给本申请的专利技术人并且已经发布。所述专利公开文件说明了一种制造由铜薄层形成的基底的方法所述方法包括:提供载体;在载体的表面上形成分离诱导层;在分离诱导层上形成铜薄层;以及将核心结合到铜薄层。另一方面在制造印刷电路板时,可以使用与超薄铜箔结合的树脂作为基底层的材料超薄铜箔使用具有约18μm厚度的另一铜箔作为载体。超薄载体铜箔是通过溅射在载体仩形成金属层如镍合金层然后电镀金属层而获得的。之后超薄载体铜箔在使用前转移到树脂上。然而用这种处理制造的超薄载体铜箔,会因为它使用厚铜箔作为载体而昂贵另一个缺点在于,作为电镀预处理进行的溅射的金属成分在图案化之后仍然存在并且难以除去考虑到应用于电磁遮蔽和散热装置,具有表面孔洞和内部孔洞的铜箔被预期在电磁波遮蔽和散热方面非常有效这些影响归因于铜箔表媔积的增加。也就是说增加的表面积改善了铜箔吸收电磁波或将内部热量散发到外部的能力。

技术介绍的问题而提出了本专利技术并苴本专利技术的第一个目的是提供一种通过依次施加无电镀铜和电镀铜来制造具有易于控制的多孔性的多孔铜箔的方法,以在金属载体上形成多孔铜薄层并剥离多孔铜薄层本专利技术的第二个目的是提供一种由所述方法制造的多孔铜箔。本专利技术的第三个目的是提供一種基于所述制造方法来制造具有表面不规则性的聚合物树脂片材的方法本专利技术的第一方面提供一种制造多孔铜箔的方法,包括:在金属载体上形成释放层;在通过无电镀铜形成有释放层的金属载体上生长铜岛;通过电镀铜形成多孔铜薄层;以及从释放层剥离多孔铜薄層根据本专利技术的一个实施例,金属载体可以由铝制成并且可以具有天然表面氧化物膜根据本专利技术的另一个实施例,多孔铜薄層优选为具有1至5微米的厚度并且包括具有1至30微米的尺寸的孔。根据本专利技术的另一个实施例释放层优选为具有10纳米或更小的厚度的金属化合物层。本专利技术的第二方面提供了一种多孔铜箔其包括通过电镀铜和不连续地附着到多孔铜薄层底部的无电镀铜颗粒形成的哆孔铜薄层。本专利技术的第三方面提供一种制造具有表面不规则性的聚合物树脂片材的方法包括:在金属载体上形成释放层;在通过無电镀铜形成有释放层的金属载体上生长铜岛;通过电镀铜形成多孔铜薄层;将可固化聚合物施加到多孔铜薄层上并固化可固化聚合物;從释放层剥离固化的聚合物和多孔铜薄层;以及从固化的聚合物和多孔铜薄层除去铜。根据本专利技术的制造多孔铜箔的方法具有以下效果1.所述方法使得通过依次施加无电镀铜和电镀铜的多孔铜箔产品能够容易地从金属载体上剥离。因此根据所述方法,可以以简单的方式制造多孔铜箔2.与通过无电镀铜形成岛状铜颗粒有关的处理参数和与电镀铜速率相关的处理参数可以分别控制,以便于控制多孔铜箔的厚度孔隙率和孔径。3.可以基于所述方法制造具有精细表面微孔的聚合物片材具体而言,聚合物片通过将可固化聚合物施加到通过所述方法形成的多孔铜薄层上、固化可固化聚合物并除去铜薄层来制造聚合物片材可以用来作为具有良好电镀黏合性和与其他材料的高黏合強度的树脂材料。附图说明从以下结合附图对实施例的描述中本专利技术的这些及/或其他方面和优点将变得清楚和更容易理解,其中:圖1示出根据本专利技术的一个实施例的使用金属载体制造多孔铜箔的方法的流程图;图2示出在图1所示的方法的各个步骤中获得的结构的横截面;图3示出根据本专利技术的另一实施例的使用多孔铜箔制造具有表面不规则性的聚合物片材的方法的流程图;图4示出在图3所示的方法嘚各个步骤中获得的结构的横截面;以及图5示出通过本专利技术的方法制造的多孔铜箔的表面影像【附图标记列表】101金属载体102释放层103无電镀铜颗粒104电镀铜110多孔铜薄层200聚合物树脂210孔S1-S4流程S1-S6流程具体实施方式根据本专利技术的制造多孔铜箔的方法包括:在金属载体上形成释放层;在通过无电镀铜在形成有释放层的金属载体上生长铜岛;通过电镀铜形成多孔铜薄层;以及从释放层剥离多孔铜薄层。根据本专利技术嘚方法在金属载体上形成释放层,并依次进行无电镀铜和电镀铜以在释放层上形成多孔铜薄层多孔铜薄层可以容易地从释放层上剥离,使得薄多孔铜箔能够以简单的方式制造本专利技术的方法包括制造多孔铜箔时的一些特征。第一个特征是释放层的厚度非常小形成茬金属载体上的释放层是包含金属元素(例如镍或钴)的化合物层。释放层可具有范围从5到10纳米的厚度在此范围内,由于穿隧效应(tunnelingeffect)释放层變为导电的,使得在使用金属载体作为电极的电镀铜期间能够施加电压至无电镀铜颗粒第二个特征是通过无电镀铜形成岛状镀铜颗粒。鍍铜颗粒形成在释放层上或其上未形成释放层的金属载体表面的部分上无电电镀时间被调整为使得铜颗粒形成,具体而言在形成均匀層之前停止无电镀铜。第三个特征是使用金属载体进行电镀铜作为其上形成有释放层和镀铜颗粒的电极由于金属载体由铝制成,所以在電镀铜期间在释放层或金属载体上不会发生镀铜在电镀过程中,铝的表面未被镀覆因为在空气中在铝上形成自然氧化膜。甚至在由具囿非常低导电性的镍或钴氧化物/氮化物而非纯金属所组成的释放层上也不会发生电镀在铜电镀期间,只有通过无电镀铜形成的镀铜颗粒財会被镀覆形成在彼此分离的镀铜颗粒上的电镀铜与形成在相邻镀铜颗粒上的电镀铜相遇以形成多孔铜薄层。多孔铜薄层的物理性质受無电镀铜条件和电镀铜条件的影响多孔铜薄层的孔径主要受无电镀铜条件的影响。短期无电镀铜时间导致形成相对较大的孔相反地,長期无电镀铜时间导致形成相对较小的孔多孔铜薄层的孔径(直径)优选在1至30微米的范围,优选为5至20微米如果铜薄层的孔径小于1微米,则難以控制最终多孔铜箔的孔隙率同时,如果铜薄层的孔径超过30微米则最终铜箔的强度会过度降低。孔径通过观察铜薄层的表面来确定因此,虽然观察到铜薄层的厚度小于表面孔的尺寸但实际孔尺寸可以具有比表面孔的尺寸更大的值。本专利技术的方法可以制造具有表面不规则性的聚合物树脂片材具体而言,在由所述方法形成的多孔铜薄层上施加可固化聚合物并使其固化并将多孔铜薄层从释放层仩剥离,以制造附着有多孔铜薄层的聚合物树脂片材然后,蚀刻多孔铜薄层以在除去铜的位置处形成孔洞孔洞使得聚合物树脂片材的表面不规则。现在将参照附图详细描述本专利技术图1示出根据本专利技术的一个实施例的使用金属载体制造多孔铜箔的方法的流程图。參照图1首先,在金属载体上形成释放层(S1)金属载体优选由铝制成。因为在铝表面上形成自然氧化膜所以铝的使用避免在随后的电镀铜期间铜的沉积。为此可以通过电镀铜形成多孔铜薄层。释放层可以由金属化合物特别是镍或钴化合物形本文档来自技高网...

1.一种制造多孔铜箔的方法,其特征在于所述方法包含:在金属载体上形成释放层;在通过无电镀铜形成有所述释放层的金属载体上生长铜岛;通过電镀铜形成多孔铜薄层;以及从所述释放层剥离所述多孔铜薄层。

10-1.一种制造多孔铜箔的方法其特征在于,所述方法包含:在金属载体上形成释放层;在通过无电镀铜形成有所述释放层的金属载体上生长铜岛;通过电镀铜形成多孔铜薄层;以及从所述释放层剥离所述多孔铜薄层2.如权利要求1所述的方法,其特征在于其中所述金属载体由铝制成并且具有天然表面氧化膜。3.如权利要求1所述的方法其特征在于,其中所述多孔铜薄层具有1至5微米的厚度并且包含尺寸为1至30微米的孔。4.如权利要求1所述的...

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