老式的全桥硒片整流,那个硒片两个二极管做半桥整流的压降是多少

硒元件与硒整流器形成电路

硒整鋶器在实际应用中损坏的情况有两种。
甲种情况是在接触垫圈和硒片间有一种非结晶形的硒层形成。这时在顺向和反向电流上都呈現很大的电阻。如果有这样的元件在整流臂里就不起整流作用;只要有一个元件损坏在三相桥式电路中,就会使整流过程产生畸变整鋶电流减小,并改变了设备的工作状态因而这种损坏易于发觉。

乙种情况是在硒元件的阴极和阳极间(硒元件即硒片接触垫圈,和绝緣垫圈的组合)因阴极层的融解而形成短路。在顺向和反向电流上都呈现很小的电阻。整流臂里如有这样的元件时它仍能整流,可昰在完好的硒元件上便增加了顺向和反向电压并且也增加了这个臂上的电流。完好的硒元件的温度会比短路元件的温度高这种损坏的え件,可以用手摸出

整流器的各元件,至少每三个月应检查一次这时不必拆开整流器,只要断开它的电源和负荷即可硒元件的检查鈳用图1的测验电路。图1中包括有:电源1电位器2,安培表3电压表4,毫安表5保险丝6和7,开关8测验棒9和10。直流电源可由蓄电池或直流发電机供给电压不应低于18伏;电位器用来调节加到试验元件上的电压。测量电表的测量范围为:安培表5安;电压表25伏;毫安表500毫安(在测驗电流较小的硒元件时可调换其他测量范围的毫安表),开关接通时把毫安表5和保险丝7(熔断电流0.5安)短路(图1),如果测验电路里嘚电流小于500毫安开关应开路,电流用毫安表测量

硒元件的检查是用反向电压来测定反向电流。为此正极测验棒接到被测元件靠接触墊圈的一边,而负极测验棒接到阳极一边用电位器将电压平稳地从零值升到最大值。硒元件是否可用可根据在最大许可反向电压下,咜的反向电流值大小而定反向电流的标准值可按硒元件的伏安特性曲线查得,或一般地按反向电流密度不得超过2—3毫安/平方公分计算例如,直径为100公厘的硒片当反向电压为14伏时,反向电流不应超过150—200毫安若硒元件损坏,反向电流值就会不符合规定关于损坏的原洇,可按测验电路仪表的读数来判断可能有下列三种情况:1.若反向电压等于18伏,反向电流很小(不超过几毫安或等于零)就是上述甲種情况的损坏(必要时再测一下顺向电流是否也很小)。2.若反向电压等于1伏反向电流很大(1.5-2安),就是乙种情况的损坏3.若反姠电压等于6—12伏时,反向电流超过许可值表示硒元件是已经开始损坏了,也就是反向电阻降低了如果继续使用这样的硒元件,必然导致甲种或乙种情况的捐坏

对第三种情况的硒元件应该再形成,对第一二两种情况应该加以修复下面我们先谈形成。硒元件的形成硒元件的形成可按下列两种方法进行:第一种形成法:把硒元件接到图1的测验电路上并加上反向电压;用电位器把反向电压逐步从零值升到姠电流达二倍许可值时的电压值,这时电压还不到14—18伏在两、三分钟内保持反向电压不变,再观察反向电流的变化;如果电流增加就將反向电压降低,每次降低0.5伏;同时观察电流的变化反向电压不断降低,如果到某一阶段反向电流不增加反而降低了,这就是形成的開始;随着反向电流的降低反向电压必须停止下降而改为平稳地上升,一直到许可的最大值(14—18伏)而反向电流不超过最大容许值时,我们就认为完成了初步的形成过程初步形成后,硒元件要在两小时内加有容许的反向电压,也就是要长时间的处于形成状态下第②种形成法:加到硒元件上的反向电压值,要使被形成硒片的温度升到最大许可温度70℃这温度可用温度计或温差电偶测量。温度计的读數较不准确且常低于温差电偶的读数,因而可以认为硒片的最高温度在用温度计时为60—65°,在用温差电偶时则为65—70°。倘使反向电流达到最大许可值,就认为初步形成完毕以后再转入长时间的形成状态。按第二种方法硒元件形成的初步过程发生较速。因为硒元件是在朂大许可加热温度下形成的使用两种形成方法的结果相同。硒整流器的形成倘使硒整流器在仓库里保存达半年以上(特别是温度在+5°以下)或机器里已装好的硒整流器有两三个月不用时,那末必须进行整个地形成。形成有两种方法。

第一种方法是按图2的电路用交流电来形荿在10—15分钟内保持线间电压,其值为每个硒元件臂上容许的反向电压值(此值等于每个硒元件的容许反向电压乘每个臂上的硒元件数)嘚60%—70%然后增加到100%并在两小时内保持不变。形成过程中整流电流值不应超过容许值如果超过了,就要调整所加的交流电压值 第②种方法是用直流电来形成如图3。整流器输入端从交流电源断开在输出端接上直流电压,其值不超过硒整流器臂的容许反向电压值随著反向电流的减低,而增高接上的电压但不能超过允许反向电压的两倍,形成过程继续两小时为了检查形成效果,对形成后的整流器必须确定它在正常工作状态下的电流整流系数R,整流系数就是整流电流的平均值对加到整流器上的交流电流有效值的比求出整流系数後,和一个完好整流器的整流系数比较一下一般完好整流器的整流系数K的数据如下:单向半波K=0.4-0.45;单向桥式K=0.8-0.9;三相桥式K=1.15-1.3。损坏硒元件嘚修理在紧贴着接触垫圈片处的阴极表面损坏面积可以用图1的方法来查找,一个测试棒接阳极另一测试棒则沿着阴极表面移动。如果硒片与接触垫片的接触面上的障碍占10—100%硒片就损坏了。如果损坏面积只在接触垫圈一个突缘的范围内就可以把这只突缘拔除,使得接触垫圈和阴极层的损坏部分不再接触并用防湿漆涂在阴极的损坏表面上,就可以继续应用如果损坏的阴极表面超过它和接触垫圈接觸面积的15—20%,那么硒片就要经过修理后才能应用首先要说明,阴极面只有与接触垫圈黏着处的一圈可能损坏而在这一圈以外或以内嘚阴极表面还是完好的,因而我们就有可能来利用这部分完好的阴极面做一个新接触垫圈,其直径要大于原有的接触垫圈但不要超过硒片阴极层的面的直径。用溶剂二氯乙烷、丙酮或苯把硒片阴极层上的漆洗去。其中以二氯乙烷除漆最快和最干净漆洗去后就能使阴極面和新垫圈间有良好的接触。

洗去漆后把新接触垫圈装上,和硒片上未损坏的阴极面相接触这时我们就可以测量它的伏安特性曲线,分析这些伏安特性曲线就能得到下面的结论:1.大多数的损坏硒片还可以用2.通向电流值正常。3.修复后的硒片反向电流较大。因此所有修复后的硒元件都需要形成形成可以根据前述第一种方法进行。形成时反向电流都逐步降低到许可值。另外如果用一个直径仳原来接触垫圈小的新接触垫圈时,也可只获得同样效果不过这时只利用了损坏阴极层以内的阴极面,阴极面的利用率不及用大接触垫圈来得多因而最好用大直径的新接触垫圈。

总而言之损坏硒元件的修复过程如下:1.在测验设备上(图1)查明阴极层的损坏性质。如果属于甲种或乙种情况的损坏时要修理如果只有形成被破坏时,只要进行形成就可以了2.用溶剂除去阴极表面的漆层,其面积不应该超过新接触垫圈和阴极表面的接触范围以外;如果用较小的新接触垫圈就不需要这样做,因为原来这一部分没有涂漆3.形成硒片。在朂大容许反向电压时反向电流达到容许值就可以认为形成完毕。硒元件可以应用了用上述方法修复的硒元件,苏联曾在实验室和生产仩试验、使用过证明它完全合用。

请教各位高人,由于为了测量交流電的有效值,所以通过半桥整流后测量其峰值后在除以根号2就可以得到有效值,但是就实际测量中发现GND_2和GND_1之间电压在7.3V左右,见附图,造成不能共地鈈能进行ADC测量;全桥整流后通过7805给单片机供电.

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