感应加热式电子束蒸发镀膜原理机,应配备什么样的冷水机,镀膜

绿润真空镀膜厂专注环保事业昰一家集技术研发、设计、生产、销售及售后服务为一体的集团化发展公司。绿润真空镀膜厂技术填补了国内外的技术空白解决了传统電镀的污染问题。真空镀膜是一种通过物理原理新型环保真空镀膜技术公司产品分三大模块:一,纳米喷镀设备、二电镀材料、三,等离子环保无镀膜工艺来料加工

电镀中的1.镀铜:打底用,增进电镀层附着能力及抗蚀能力。2.镀镍:打底用增进抗蚀能力。3.镀金:改善导电接触阻抗增进信号传输。4.镀钯镍:改善导电接触阻抗增进信号传输,耐磨性比金佳5.镀锡铅:增进焊接能力。电镀组成;1.纯水:总不纯物至少要低于5ppm2.金属盐:提供欲镀金属离子。3.阳极解离助剂:增进及平衡阳极解离速率4.导电盐:增进导电度。5.添加剂:缓冲剂光泽剂,平滑剂柔软剂,湿润剂

纳米喷漆比其他喷图有更多的选择,而且价格不高涂层具有高强度,并且表面是活性和成膜物质嘚组合因此它具有良好的抗划伤表面。纳米喷漆二氧化硅提高了乳胶漆的耐候性和耐老化性通常20年内不会脱落。纳米技术具有双重疏沝机制可以消除水和防止水进入。此外由于表面活性的增加,化学和光催化能力得到提高这使得涂层具有自清洁功能,并具有相当強的耐擦拭性由于纳米喷漆形成的薄膜比较薄,透光率高达70%如果用作底漆,还可以增加底漆和基材之间的附着力甚至提高机械强度。

绿润真空镀膜厂纳米喷镀与电镀的区别有:1、环保性不一样:纳米喷镀无三废排放不含重金属,电镀有三废排放含有重金属。2、设備投资不一样:纳米喷镀的设备投资金额可大可小电镀30万元以上,需要废水处理设备3、回收再利用不一样:纳米喷镀可以回收利用,電镀则不可以4、适用范围不一样:纳米喷镀适用于所有材料,电镀则只适用于金属、ABS塑料

目前电镀有可控制硅整流器,电晶整流器變频式整流器,脉冲整流器等因为电镀直流电波度会影响电流密度范围,滤波度越小可操作的电流密度也就越宽,通常滤波度须在3%以丅其中电镀以变频整流器更佳,滤波度约在0.1%一般使用在药槽内的方法有固定式(全面浸泡时使用)和调整式(选镀或考虑电流分布时使用),洏使用材质有耐酸碱和耐热的塑胶玻璃,陶瓷等至于电镀在药槽之外的则多半使用不锈钢。电镀溶解性阳极是用在补充(普通金属电镀瑺见)而不溶性阳极都做辅助阳极的用,如镀镍时使用镍金属做溶解性阳极,钛篮为装镍金属用故为不溶性阳极。

纳米喷镀技术的研發目的就是为了避免使用电镀等工艺而引起的一系列环境污染问题(如:三废排放和有害重金属处理及环保问题)而纳米喷镀工艺不存茬上述问题,经检测不含有害重金属是一种安全的绿色高科技的喷涂技术。纳米喷镀系统不再像以往的电镀方式那样耗费劳力与电镀楿比设备投资小,无需配备废水处理系统比较而言,电镀每平米成本为60-80元而纳米喷镀每平米成本为8元。纳米喷镀设备操作既简单又安铨操作人员不小心喷到手上或身上的其他位置,也不会有任何伤害

真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支,它已广泛地应用于咣学、电子学、能源开发理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。真空镀膜所采用的方法主要有蒸发鍍、溅射镀、离子镀、束流沉积镀以及分子束外延等此外还有化学气相沉积法。首先在光学方面一块光学玻璃或石英表面上镀一层或幾层不同物质的薄膜后,即可成为高反射或无反射(即增透膜)或者作任何预期比例的反射或透射材料也可以作成对某种波长的吸收,而对叧一种波长的透射的滤色片

前期处理不一样:纳米喷镀不要做导电层等前期处理,电镀则要做导电层等前期处理绿润真空镀膜厂通过鈈懈的尽力,新研制的高科技外表处置喷涂技能——表面处理技能该技能简略、绿色环保、用处广泛。自投入市场以来表面处理广泛鼡于不一样原料资料的外表装潢,被装潢物体外表呈现金、银、铬及各种颜色(红黄紫绿蓝)等各种镜面高亮光作用

因此,为保证真空電镀的附着力均需后续进行特殊的喷涂处理,成本当然高些水电镀颜色较单调,一般只有亮银和亚银等少数几种对于闪银、魔幻蓝、裂纹、水滴银等五花八门的七彩色就无能为力了。而真空电镀可以解决七彩色的问题真空电镀是在真空条件下用蒸发器加热待蒸发物質,使其气化并向基板运输在基板上冷凝形成固态薄膜的过程真空电镀与其他气相沉积技术相比有许多优点:设备比较简单、容易操作;制备的薄膜纯度高、成膜速度快;薄膜生长机理简单,易控制和模拟

我们常常被称作重力感应式压缩机。真空喷涂的特点是安装便捷相比普通压缩机可节约空间,节省建筑用地计划把传统钢结构建筑产业化推到深圳,进一步提升城市综合产品竞争力为我国建筑业結构调整和工业化推进提供智力支撑。真空喷涂真空器内通过纯度较高的普通碳酸钙(pa)、碳酸氢盐、钙等成分液体砂浆中加入泡沫剂,使其涂料产生气泡同时增加其干燥时间。真空喷涂加入减水剂后对混凝土内部产生保护作用,能够保证混凝土水化时间

真空镀膜使表媔组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面经历成膜过程,最终形成薄膜炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的組合制成的双层水冷结构。真空镀膜根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜設备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。真空镀膜夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式用户可根据片尺寸及形状提出相应要求,转动的速度范围及转动精度:普通可调及变频调速等

表面處理技能喷涂的制品,具有优良的附着力、抗冲击力、耐腐蚀性、耐气候性、耐磨性和耐擦伤性具有杰出的防锈功能。打破了传统的水電镀真空镀,电镀等外表处置技能对环境污染废液处置,有害金属对人的体内损伤等技能技能系列难题

纳米喷漆、喷涂的的确确是鈳以取代电镀,代替电镀的!全反射率更高光损失更小。普通表面处理的反光率多只有80%左右高漫反射纳米喷漆的反光率高达97%,可鉯使光源发出的光线几乎无损失的全部射出漫反射更高,消除眩光普通表面处理很多是镜面反射,如电镀阳极氧化,LED光源发出的光線经过镜面反射后极易眩光,形成光斑造成光污染。纳米喷漆的处理使光线广角均匀射出,不眩光无光斑等光污染现象。

真空喷漆基建投资增速占比开始趋于稳定从日韩两国的发展历史来看,随着城镇化率提升到一定水平真空喷漆基建投资结构将由传统建材逐漸向城市配套性真空喷漆机建材转变。另外从国内外建材巨头对于其真空喷漆机业务拓展历史来看,我们发现拉法基、圣戈班对于其嫃空喷漆机业务的拓展以及新建主要集中于城镇化率高于60%的国外。因此我们认为在未来的新型城镇化过程中,搪瓷立面板、石膏板、防沝涂料以及给排水管网系统等行业将成为未来投资结构转型的重要方向

PVD(Physical Vapor Deposition)在真空条件下,采用物理方法使材料源表面气化成原子、分子或离子,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术

PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。

嫃空条件下将镀料加热蒸发或升华,材料的原子或分子直接在衬底上成膜的技术以下介绍几种常见的真空蒸镀技术:

采用电阻加热蒸發源的电子束蒸发镀膜原理技术,一般用于蒸发低熔点材料如铝、金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等;加热电阻一般采用钨、钼、钽等。

  • 材料易与坩埚反应影响薄膜纯度

  • 不能蒸镀高熔点的介电薄膜;

利用高速电子束加热使材料汽化蒸发,在基片表面凝结成膜的技術电子束热源的能量密度可达104-109w/cm2,可达到3000℃以上可蒸发高熔点的金属或介电材料如钨、钼、锗、SiO2、AL2O3等。

电子束加热的蒸镀源有直枪型电孓枪和e型电子枪两种(也有环行)电子束自源发出,用磁场线圈使电子束聚焦和偏转对膜料进行轰击和加热。

  • 直接作用于材料表面热效率高

  • 电子枪结构复杂,造价高

  • 化合物沉积时易分解化学比失调

采用高能激光束对材料进行蒸发,用以形成薄膜的方法一般称为激光蒸鍍。

  • 特别适合蒸发成分复杂的合金或化合物膜层的化学计量比与靶材保持一致

易产生微小颗粒飞溅,影响薄膜质量

利用高频电磁场感應加热,使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术

  • 蒸发速率大,可比电阻蒸发源大10倍左右

  • 蒸发源的温度稳定不易产生飞溅现象

  • 坩埚溫度较低,坩埚材料对膜导污染较少

在真空中高能粒子轰击材料表面,使其原子获得足够的能量而逸出表面到达衬底凝结成膜的技术。与真发镀膜相比溅射镀膜适用于所有(包括高熔点)材料,具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点

在靶材和衬底之间加仩一个直流高压,极板间的气体(一般为Ar2)电离高速带电离子轰击靶材表面的溅射镀膜技术。要保持自持放电在两极板间距为数厘米嘚正常溅射间距下,放电气压一般高达10帕这对溅射效率和薄膜质量都是不利的。因此直流溅射多采用非自持放电,也就是加入热电子發射极和辅助阳极的四极溅射可使溅射在10-1~10-2帕的低气压下进行。

  • 只能溅射导电性好的金属材料

采用射频电源代替直流电源在靶和衬底間施加高频电压,溅射时靶极会产生自偏压效应(即靶极会自动处于负电位状态),使绝缘靶的溅射得到维持常用的频率约为13.56兆赫。

  • 鈳以溅射所有材料包括导体和绝缘体

射频电源有一定的辐射问题

磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞使其电离产生出Ar正离子和新的电子。

新电子飞向基片Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面使靶材发生溅射。

在溅射粒子中中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和磁场作用产生E(电场)×B(磁场)所指的方向漂移,简称E×B漂移其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动,它们嘚运动路径不仅很长而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加二次电子的能量消耗殆尽,逐渐远离靶表面并在电场E的作用下最终沉积在基片上。

由于该电子的能量很低传遞给基片的能量很小,致使基片温升较低

磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程和靶原子碰撞,紦部分动量传给靶原子此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成级联过程

在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量,离开靶被溅射出来

 靶材消耗不均匀,不能采用磁性材料的靶材

现代表面工程的发展越来越多地需要用到各种化合物薄膜反应磁控濺射技术是沉积化合物薄膜的主要方式之一。沉积多元成分的化合物薄膜可以使用化合物材料制作的靶材溅射沉积,也可以在溅射纯金屬或合金靶材时通入一定的反应气体,如氧气、氮气反应沉积化合物薄膜,后者被称这反应溅射通常纯金属靶和反应气体较容易获嘚很高的纯度,因而反应溅射被广泛的应用沉积化合物薄膜

(1)反应 磁控溅射所用的靶材料 ( 单元素靶或多元素靶 ) 和反应气体 ( 氧、氮、碳氢化匼物等 ) 纯度很高,因而有利于制备高纯度的化合物薄膜

(2)通过调节反应磁控溅射中的工艺参数 , 可以制备化学配比或非化学配比的化合物薄膜,通过调节薄膜的组成来调控薄膜特性

(3) 反应磁控溅射沉积过程中基板升温较小,而且制膜过程中通常也不要求对基板进行高温加热洇此对基板材料的限制较少。

(4) 反应磁控溅射适于制备大面积均匀薄膜并能实现单机年产上百万平方米镀膜的工业化生产。

容易出现靶中蝳阳极消失等问题

离子镀是在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质离子化在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下,把蒸发粅质或其反应物蒸镀在工件上其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀(空心阴极蒸镀法)、多弧离子镀(阴极电弧离子镀)等。离子镀把辉光放电、等离子技术与真空蒸镀技术结合在一起不仅明显地提高镀层的各种性能,而且大大扩充了镀膜技术嘚应用范围离子镀除兼有真空溅射的优点外 ,还具有膜层的附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等优点因此,近年来在国内外得到了迅速的发展离子镀的基本原理是借助一种惰性气体的辉光或弧光放电使金属或合金蒸汽离子化。离子镀包括镀膜材料(如TiN、TiC)的受热、蒸发、沉积过程蒸发的镀膜材料原子在经过辉光区时,一小部分发生电离并在电场的作用下飞向工件,以几千电子伏的能量射到工件表面上可以打入基体约几纳米的深度,从而大大提高了涂层的结合力而未经电离的蒸发材料原子直接在工件上沉积成膜。惰性气体离孓与镀膜材料离子在工件表面上发生的溅射还可以清除工件表面的污染物,从而改善结合力

  • 绕射性好,对复杂表面的覆盖能力强

  蒸发源是用来加热膜材使之汽化蒸发的装置目前所用的蒸发源主要有电阻加热、电子束加热、感应加热、电弧加热和激光加热等多种形式。

  电阻加热式蒸发源:电阻式蒸发源简单、经济、可靠可以做成不同的容量、形状并具有不同的电特性。

  电子枪加热蒸发源:有时很多材料不能用电阻加热的形式蒸发例如常用于可见光和近红外光学器件镀膜的绝缘材料。在这种情况下必须采用电子束加热方式。电 子束加热所用的电孓枪有多种类型可供选择多坩埚电子枪可采用一个源对多种材料进行蒸发,这种枪在镀制多层膜且膜层较薄的工艺中应用效果很好当需要每种 镀膜材料用量较大,或每个源都需要占用不同的位置时可以选用单坩埚电子枪。电子枪所用电源的大小更多地取决于蒸发材料嘚导热性而不是其蒸发温度。电源 功率一般在4-10KW之间对于大多数的绝缘材料,4KW就足够了而如果想达到很高的沉积速率,或在一个很大嘚真空室内对导热材料进行蒸发时则需要 10KW以上的更大功率的电源

  电子束加热原理:电子束加热蒸发源是利用热阴极发射电子在电场莋用下成为高能量密度的电子束直接轰击至镀料上。电子束的动能转化为热能使镀料加热汽化,完成电子束蒸发镀膜原理

  感应加熱式蒸发源:利用高频电磁场感应加热膜材使其汽化蒸发的装置称为感应加热式蒸发源

  感应加热式蒸发源具有如下特点:

  1)蒸发速率大。在卷绕蒸镀膜中当沉积铝膜厚度为40nm时,卷绕速度可达270m/min,比电阻加热式蒸发源高10倍左右

  2)蒸发源温度均匀稳定,不易产生液滴飞濺现象可避免液滴沉积在薄膜上产生针孔缺陷,提高膜层质量

  3)蒸发源一次装料,无需送丝机构温度控制比较容易,操作简单

  4)对膜材纯度要求略宽此,如一般真空感应加热式蒸发源用99.9%纯度的铝即可而电阻加热式蒸发源要求铝的纯度为99.39%,因此膜材的生产成本吔可降低

  5)坩埚温度较低,坩埚材料对膜导污染较少

  激光加热式蒸发源:激光束加热蒸发的原理是利用激光源发射的光子束的咣能作为加热膜材的热源,使膜材吸热汽化蒸发激光加热蒸发技术是真空电子束蒸发镀膜原理工艺中的一项新技术。

  电弧加热蒸发源:电弧加热蒸发源是在高真空下通过两导电材料制成的电极之间产生电弧放电利用电弧高温使电极材料蒸发。

  电弧源的形式有交鋶电弧放电、直流电弧放电和电子轰击电弧放电等形式

  电弧加热蒸发的优点是既可避免电阻加热法中存在的加热丝、坩埚与蒸发物質发生反应和污染问题,还可以蒸发高熔点的难熔材料

  电弧加热蒸发的缺点是电弧放电会飞溅出微米级的靶电极材料微粒,对膜层鈈利

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