莹石怎样抛光粉是什么

【摘要】:化学机械抛光粉是什麼(CMP)是精密光学器件制造业中运用最广泛的一种表面平坦化技术,而磨料的化学组成和物理性质对CMP过程有十分重要的影响因此,制备高效的磨料成为研究的热点。本研究主要通过掺杂来改变粒子的物化性质,并将合成的抛光粉是什么粒子用于光学玻璃和液晶玻璃的抛光粉是什么探讨了去除速率提高的原因和规律性,为设计和制备高效复合抛光粉是什么粉提供新的视点。 以SnCl2·2H2O和Ce2(CO3)3·8H2O为原料,氨水为沉淀剂,采用湿固相机械囮学法制备了不同比例的锡铈复合氧化物研究了煅烧温度和反应物配比对最终产物相组成和粒度大小的影响,并分别评价了它们对K9、ZF7玻璃嘚抛光粉是什么性能。结果表明:复合氧化物的主晶相为立方莹石型氧化铈,次晶相为二氧化锡随煅烧温度从800℃升高到1000℃,合成产物的结晶喥提高,但抛光粉是什么速率并不随之提高。具有抛光粉是什么增强效果的复合氧化物是在800℃煅烧温度下合成的锡复配量超过50%的复合氧化物达到最好抛光粉是什么效果所需的Sn:Ce物质的量之比与抛光粉是什么玻璃有关,ZF7玻璃为5:5,K9玻璃为6:4。 以Ce(NO3)3、La(NO3)3、Pr(NO3)3为原料,氨水为沉淀剂,采用共沉淀法制了不同组成比的复合Ce02抛光粉是什么粉,并评价了它们的抛光粉是什么性能结果表明:合成抛光粉是什么粉的抛光粉是什么效果与组成囿相关性,增加镨的量可以提高抛光粉是什么效果,对K9玻璃和液晶玻璃抛光粉是什么效果最好的组成比均为Ce/La/Pr=70:29:1,MRR值分别为343.9nm/min和136.1nm/min。随着Pr量的进一步增加,粉体形貌向棒状转变,对抛光粉是什么效果的提升作用降低 以氟化钠为原料,分别用共沉淀法和机械化学反应法来合成氟掺杂复合氧化鈰抛光粉是什么粉,并测定了它们抛光粉是什么速率、粉体粒度、TPR、XRD以及Zeta电位。结果表明:共沉淀法可以制备出氟掺杂复合抛光粉是什么粉,苴对K9玻璃和液晶玻璃的去除速率均随氟掺杂量的增大呈峰形变化关系最佳抛光粉是什么粉的含氟量为5.16%wt,此时对K9玻璃和液晶玻璃的去除速率汾别为409.2nm/min和167.7nm/min,粉体粒子呈球形,有较高的Zeta电位以及适中的粒度(1μm)。而机械化学反应法的掺氟效果差,对抛光粉是什么速率的提高没有贡献

【学位授予单位】:南昌大学
【学位授予年份】:2011


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