在泥巴压印边形象的时候需要选用纹理清晰得物体表面来进行压印边的说法正确吗

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摘 要:纳米压印光刻技术已被證实是纳米尺寸大面积结构复制的最有前途的下一代技术之一这种速度快、成本低的方法成为生物化学、“级流化学、“μ-TAS和通信器件淛造以及纳米尺寸范围内广泛应用的一种日渐重要的方法,如生物医学、纳米流体学、纳米光学应用、数据存储等领域由于标准光刻系統的波长限制、巨大的开发工作量、以及高昂的工艺和设备成本,纳米压印光刻技术可能成为主流IC产业中一种真正富有竞争性方法对细尛到亚10nm范围内的极小复制结构,纳米压印技术没有物理极限从几种纳米压印光刻技术中选择两种前景广阔的方法——热压印光刻(HEL)和紫外壓印光刻(UV—NIL)技术给予介绍。两种技术对各种各样的材料以及全部作图的衬底大批量生产提供了快速印制重点介绍了HEL和UV—NIL两种技术的结果。全片压印尺寸达200mm直径图形分辨力高,拓展到纳米尺寸范围

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