米洛科自动化科技有限公司
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米洛科自动化科技有限公司
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法人代表：朱先生
公司规模：100
成立年份：2002
经营模式：综合型
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苏州相城区元和里口嘉元路468号
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质量流量计：Promass 型号：80A、80E、80F 型号：83A、83E、83F 型号：40E 型号：Dosimass 80H、80I、80M、80S 83H、83I、83M、83S 84A、84F、84M CNG...
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3、温度测量工程解决方案
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1、温度变送器TMT180、TMT181、TMT182 TMT184、TMT187、TMT188 TMT121、TMT122 TMT127、TMT128
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PMC41、PMC45 PMC71、PMP71、PMP75 PMP41、PMP45、PMP46、PMP48 PMC131、PMP131、PMP135 PTC31、PTP31、PTP35 PMD70 PMD75 FMD76、FMD77 FMD78 FMB70 ...
（2）差压变送器：Deltabar
型号：PMD70 型号：PMD75 型号：FMD76、FMD77 型号：FMD78
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（1）表压与绝压变送器：Cerabar、Ceraphant型号：PMC41、PMC45
型号：PMC71、PMP71、PMP75 PMP41、PMP45、PMP46、PMP48 型号：PMC131、PMP131、PMP1...
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&生意宝(002095) 版权所有&&控制棒全部拔出时反应堆堆芯最高温度能达到多少？堆芯为什么不采用耐高温材料？这样就可以不用冷却了？_百度知道
控制棒全部拔出时反应堆堆芯最高温度能达到多少？堆芯为什么不采用耐高温材料？这样就可以不用冷却了？
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如果没有冷却，这个温度基本上没有上限，所以不管什么材料都扛不住。
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出门在外也不愁二氧化碳和碳反应温度是多少?在氧气缺乏,高温条件下,二氧化碳和碳反应后,一氧化碳能否燃烧再生成二氧化碳?_百度作业帮
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二氧化碳和碳反应温度是多少?在氧气缺乏,高温条件下,二氧化碳和碳反应后,一氧化碳能否燃烧再生成二氧化碳?
二氧化碳和碳反应温度是多少?在氧气缺乏,高温条件下,二氧化碳和碳反应后,一氧化碳能否燃烧再生成二氧化碳?
并不都是一氧化碳,因为之前的空气中的氧气并不能充分的反映再加上空气中有并不参与反映的氮气等其他成分.之所以碳和二氧化碳反映生成一氧化碳涉及到热力学势能,简单来说一氧化碳燃烧生成二氧化碳是放热反映那么二氧化碳生成一氧化碳的反映就是吸热反映.而吸热反映想要达成就需要高温为条件.高温通常指600度以上.310万吨/年催化原料预处理装置反应进料加热炉及余热回收系统衬里施工技术方案
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310万吨/年催化原料预处理装置反应进料加热炉及余热回收系统衬里施工技术方案
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3秒自动关闭窗口单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图．相关信息如下：①四氯化硅遇水极易水解；②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；③有关物质的物理常数见下表：
{[物质][][][][][][沸点/℃][57.7][12.8][-][315][-][熔点/℃][-70.0][-107.2][-][-][-][升华温度/℃][-][-][180][300][162]}请回答下列问题：（1）写出装置A中发生反应的离子方程式____．（2）装置A中g管的作用是____；装置C中的试剂是____；装置E中的h瓶需要冷却的理由是____．（3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是____（填写元素符号）．（4）为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2+，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：5Fe2++MnO4-+8H+=5Fe3++Mn2++4H2O①滴定前是否要滴加指示剂？____（填“是”或“否”），请说明理由____．②某同学称取5.000g残留物后，经预处理后在容量瓶中配制成100mL溶液，移取25.00mL试样溶液，用1.000×10-2mol/LKMnO4标准溶液滴定．达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00mL，则残留物中铁元素的质量分数是____．-乐乐题库
& 硅和二氧化硅知识点 & “单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用...”习题详情
140位同学学习过此题，做题成功率90.0%
单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图．相关信息如下：①四氯化硅遇水极易水解；②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；③有关物质的物理常数见下表：
物质&SiCl4&BCl3&AlCl3&FeCl3&PCl5&沸点/℃&57.7&12.8&-&315&-&熔点/℃&-70.0&-107.2&-&-&-&升华温度/℃&-&-&180&300&162&请回答下列问题：（1）写出装置A中发生反应的离子方程式MnO2+4H++2Cl-&加热&&Mn2++Cl2↑+2H2O&．（2）装置A中g管的作用是平衡压强，使液体顺利流出并防止漏气&；装置C中的试剂是浓硫酸&；装置E中的h瓶需要冷却的理由是产物SiCl4沸点低，需要冷凝收集&．（3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是Al、P、Cl&（填写元素符号）．（4）为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2+，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：5Fe2++MnO4-+8H+=5Fe3++Mn2++4H2O①滴定前是否要滴加指示剂？否&（填“是”或“否”），请说明理由KMnO4溶液的紫红色可指示反应终点&．②某同学称取5.000g残留物后，经预处理后在容量瓶中配制成100mL溶液，移取25.00mL试样溶液，用1.000×10-2&mol/LKMnO4标准溶液滴定．达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00mL，则残留物中铁元素的质量分数是4.480%&．
本题难度：一般
题型：填空题&|&来源：2009-浙江
分析与解答
习题“单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实验室制备四...”的分析与解答如下所示：
（1）装置A是氯气发生装置，A中的离子方程式为MnO2+4H++2Cl-&加热&&Mn2++Cl2↑+2H2O；（2）因浓盐酸有挥发性，故分液漏斗要加盖，加盖后如没有g管，则盐酸就不易流下去，g管的作用是平衡压强，使液体顺利流出并防止漏气；根据制得的氯气中含有氯化氢和水，装置B用饱和食盐水除去氯化氢，装置C用浓硫酸吸水；根据产物SiCl4沸点低；（3）D中氯气与粗硅反应生成SiCl4，h瓶收集粗产物，精馏粗产品可得高纯度四氯化硅，由表中数据可以看出，蒸出SiCl4气体时，BCl3早已成气体被蒸出，而AlCl3、FeCl3、PCl5升华温度均低于SiCl4；（4）根据MnO4-转变成Mn2+溶液颜色有紫色变成无色，现象明显；先根据关系式5Fe2+～MnO4-计算出100mL溶液中含有的铁，最后求出质量百分数．
解：（1）装置A是氯气发生装置，A中的离子方程式为MnO2+4H++2Cl-&加热&&Mn2++Cl2↑+2H2O；故答案为：MnO2+4H++2Cl-&加热&&Mn2++Cl2↑+2H2O；（2）浓盐酸有挥发性，故分液漏斗要加盖，加盖后如没有g管，则盐酸就不易流下去，g管的作用是平衡压强，使液体顺利流出并防止漏气；制得的氯气中含有氯化氢和水，装置B用饱和食盐水除去氯化氢，装置C用浓硫酸吸水；产物SiCl4沸点低，需要冷凝收集；故答案为：平衡压强，使液体顺利流出并防止漏气；浓硫酸；产物SiCl4沸点低，需要冷凝收集；（3）D中氯气与粗硅反应生成SiCl4，h瓶收集粗产物，精馏粗产品可得高纯度四氯化硅，由表中数据可以看出，蒸出SiCl4气体时，BCl3早已成气体被蒸出，而AlCl3、FeCl3、PCl5升华温度均低于SiCl4，所以当SiCl4蒸出后，而AlCl3、FeCl3、PCl5还为固体留在瓶里，故答案为：Al、P、Cl；（4）①MnO4-转变成Mn2+溶液颜色有紫色变成无色，KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定时，不需要指示剂，故答案为：否；KMnO4溶液的紫红色可指示反应终点；②利用关系式法计算：&&&& & 5Fe2+～MnO4-&4×10-5mol&&&& 1.000×10-2moloL-1×0.02L×4铁元素的质量为：4×10-3mol×56g/mol=2.24×10-1g，铁元素的质量分数2.24×10-1g5.000g×100%=4.480%，故答案为：4.480%；
本题为传统的综合实验方案设计题，综合了氯气的制法、硅的提纯、滴定法等了实验知识．对有效数字的运算规则也有要求．
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单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实...
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经过分析，习题“单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实验室制备四...”主要考察你对“硅和二氧化硅”
等考点的理解。
因为篇幅有限，只列出部分考点，详细请访问。
硅和二氧化硅
与“单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实验室制备四...”相似的题目：
（1）由光导纤维组成的光缆可以代替通讯电缆，用于光纤通信，传送高强度的激光．光导纤维主要成份的化学式是&&&&．（2）氮化硅（Si3N4）是一种高温陶瓷材料，它的硬度大、熔点高、化学性质稳定．工业上曾普遍采用高纯硅和纯氮在1300℃时反应获得氮化硅，试写出该反应的化学方程式：&&&&Si3N4&&&&
以下说法正确的是&&&&纳米材料是指一种称为“纳米”的新物质制成的材料绿色食品是指不含任何化学物质的食品生物固氮是指植物通过叶面直接吸收空气中的氮气光导纤维是以二氧化硅为主要材料制成的
下列说法正确的是（　　）SiO2溶于水且显酸性SiO2是制造太阳能电池的常用材料SiO2是酸性氧化物，它不与任何酸反应向硅酸钠溶液中通入CO2气体，有白色凝胶状固体析出
“单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用...”的最新评论
该知识点好题
1化学与社会、生产、生活紧切相关．下列说法正确的是（　　）
2硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式&&&&．②整个制备过程必须严格控制无水无氧．SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式&&&&；H2还原SiHCl3过程中若混O2，可能引起的后果是&&&&．（2）下列有关硅材料的说法正确的是&&&&（填字母）．A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅（3）硅酸钠水溶液俗称水玻璃．取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡．写出实验现象并给予解释&&&&．
3下列关于硅及其化合物的说法，不正确的是（　　）
该知识点易错题
1下列推断正确的是（　　）
2下列关于硅单质及其化合物的说法正确的是（　　）①硅是构成一些岩石和矿物的基本元素②水泥、玻璃、水晶饰物都是硅酸盐制品③高纯度的硅单质广泛用于制作光导纤维④陶瓷是人类应用很早的硅酸盐材料．
3单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图．相关信息如下：①四氯化硅遇水极易水解；②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；③有关物质的物理常数见下表：
物质&SiCl4&BCl3&AlCl3&FeCl3&PCl5&沸点/℃&57.7&12.8&-&315&-&熔点/℃&-70.0&-107.2&-&-&-&升华温度/℃&-&-&180&300&162&请回答下列问题：（1）写出装置A中发生反应的离子方程式&&&&．（2）装置A中g管的作用是&&&&；装置C中的试剂是&&&&；装置E中的h瓶需要冷却的理由是&&&&．（3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是&&&&（填写元素符号）．（4）为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2+，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：5Fe2++MnO4-+8H+=5Fe3++Mn2++4H2O①滴定前是否要滴加指示剂？&&&&（填“是”或“否”），请说明理由&&&&．②某同学称取5.000g残留物后，经预处理后在容量瓶中配制成100mL溶液，移取25.00mL试样溶液，用1.000×10-2&mol/LKMnO4标准溶液滴定．达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00mL，则残留物中铁元素的质量分数是&&&&．
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{[物质][][][][][][沸点/℃][57.7][12.8][-][315][-][熔点/℃][-70.0][-107.2][-][-][-][升华温度/℃][-][-][180][300][162]}请回答下列问题：（1）写出装置A中发生反应的离子方程式____．（2）装置A中g管的作用是____；装置C中的试剂是____；装置E中的h瓶需要冷却的理由是____．（3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是____（填写元素符号）．（4）为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2+，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：5Fe2++MnO4-+8H+=5Fe3++Mn2++4H2O①滴定前是否要滴加指示剂？____（填“是”或“否”），请说明理由____．②某同学称取5.000g残留物后，经预处理后在容量瓶中配制成100mL溶液，移取25.00mL试样溶液，用1.000×10-2mol/LKMnO4标准溶液滴定．达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00mL，则残留物中铁元素的质量分数是____．”的答案、考点梳理，并查找与习题“单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅．以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图．相关信息如下：①四氯化硅遇水极易水解；②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；③有关物质的物理常数见下表：
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