理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。2.PVD技术的发展PVD技术出现于二十世纪七十年代末，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国制造业的高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层；PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。目前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。PVD技术不仅提高了薄膜与刀具基体材料的结合强度，涂层成分也由第一代的TiN发展为TiC、TiCN、ZN、CN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元复合涂层。3.涂层的PVD技术增强型磁控阴极弧：阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用，将靶材表面的电弧加以有效地控制，使材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。过滤阴极弧：过滤阴极电弧(FCA)配有高效的电磁过滤系统，可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净，经过磁过滤后沉积粒子的离化率为100%，并且可以过滤掉大颗粒，因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强。磁控溅射：在真空环境下，通过电压和磁场的共同作用，以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击，致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜。根据使用的电离电源的不同，导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。离子束DLC：碳氢气体在离子源中被离化成等离子体，在电磁场的共同作用下，离子源释放出碳离子。离子束能量通过调整加在等离子体上的电压来控制。碳氢离子束被引到基片上，沉积速度与离子电流密度成正比。星弧涂层的离子束源采用高电压，因而离子能量更大，使得薄膜与基片结合力很好；离子电流更大，使得DLC膜的沉积速度更快。离子束技术的主要优点在于可沉积超薄及多层结构，工艺控制精度可达几个埃，并可将工艺过程中的颗料污染所带来的缺陷降至最小。4,补充物理气向沉积技术*PVD介绍物理气相沉积具有金属汽化的特点，与不同的气体发应形成一种薄膜涂层。今天所使用的大多数PVD方法是电弧和溅射沉积涂层。这两种过程需要在高度真空条件下进行。Ionond阴极电弧PVD涂层技术在20世纪70年代后期由前苏联发明，如今，绝大多数的刀模具涂层使用电弧沉积技术。工艺温度典型的PVD涂层加工温度在250℃—450℃之间，但在有些情况下依据应用领域和涂层的质量，PVD涂层温度可低于70℃或高于600℃进行涂层。涂层适用的典型零件PVD适合对绝大多数刀具模具和部件进行沉积涂层，应用领域包括刀具和成型模具，耐磨部件，医疗装置和装饰产品。材料包括钢质，硬质合金和经电镀的塑料。典型涂层类型涂层类型有TiN,ALTIN,TiALN,CN,CCN,TiCN和ZN,复合涂层包括TiALYN或W—C：HDLC涂层厚度一般2~5um，但在有些情况下，涂层薄至0.5um,厚至15um装载容量。涂层种类和厚度决定工艺时间，一般工艺时间为3~6小时。加工过程优点适合多种材质，涂层多样化减少工艺时间，提高生产率较低的涂层温度，零件尺寸变形小对工艺环境无污染图示:电镀diàndù(Electoplating)电镀的概述:利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺。可以起到防止腐蚀,提高耐磨性、导电性、反光性及增进美观等作用电镀的主要用途是什么？1、提高金属制品或者零件的耐蚀性能。例如钢铁制品或者零件表面镀锌。2、提高金属制品的防护-装饰性能。例如钢铁制品表面镀铜、镀镍镀铬等。3、修复金属零件尺寸。例如轴、齿轮等重要机械零件使用后磨损，可采用镀铁、镀铬等祸福其尺寸。4、电镀还可赋予某种制品或零件某种特殊的功能。例如镀硬铬可提高其耐磨性能等。电镀的概念就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程。电镀时，镀层金属做阳极，被氧化成阳离子进入电镀液；待镀的金属制品做阴极，镀层金属的阳离子在金属表面被还原形成镀层。为排除其它阳离子的干扰，且使镀层均匀、牢固，需用含镀层金属阳离子的溶液做电镀液，以保持镀层金属阳离子的浓度不变。电镀的目的是在基材上镀上金属镀层，改变基材表面性质或尺寸.电镀能增强金属的抗腐蚀性(镀层金属多采用耐腐蚀的金属)、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、润滑性、耐热性、和表面美观。
& 果果文库所有资源均来源于互联网，仅供网友学习交流，若侵犯了您的权益，请联系我们予以删除。
19319&&人浏览
13939&&人浏览
17356&&人浏览
14055&&人浏览
11811&&人浏览
442&&人浏览
9035&&人浏览
1817&&人浏览
8412&&人浏览
5542&&人浏览
9675&&人浏览
6405&&人浏览
5037&&人浏览
6997&&人浏览
10103&&人浏览
本文标题：PVD工艺 链接地址：
copyright@ 2013- Inc. All Rights Reserved 果果文库 版权所有 联系站长: ; 经营许可证编号:浙ICP备号PVD涂层小知识【模具钢吧】_百度贴吧
&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&&签到排名：今日本吧第个签到，本吧因你更精彩，明天继续来努力！
本吧签到人数：0成为超级会员，使用一键签到本月漏签0次！成为超级会员，赠送8张补签卡连续签到：天&&累计签到：天超级会员单次开通12个月以上，赠送连续签到卡3张
关注：1,629贴子：
PVD涂层小知识收藏
Q1: 请问什么是PVD？ A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。 Q2: 请问什么是PVD镀膜？ 什么是PVD镀膜机？ A2: PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。 近十多年来，真空离子镀技术的发展是最快的，它已经成为了当代最先进的表面处理方法之一。 我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。Q3: 请问PVD镀膜的具体原理是什么？ A3: 离子镀膜（PVD镀膜）技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。 Q4: 请问PVD镀膜与传统的化学电镀（水电镀）相比有何优点？ A4: PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。
两者的不同点是：PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定；PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮；PVD镀膜不会产生有毒或有污染的物质。 Q5: 请问PVD镀膜能否代替化学电镀？ A5: 在现阶段，PVD镀膜是不能取代化学电镀的，并且除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外，在很多其他材料（如锌合金、铜、铁等）的工件上进行PVD镀膜前，都需要先对它们进行化学电镀Cr(铬)。PVD镀膜主要应用在一些比较高档的五金制品上，对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。 Q6: 请问采用PVD镀膜技术镀出的膜层有什么特点？ A6: 采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。 Q7: 请问PVD能在镀在什么基材上？ A7: PVD膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上，对锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬，然后才适合镀PVD。 Q8: 请问PVD镀膜能够镀出的膜层种类有那些？ A8: PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等）、氮化物膜（TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。 Q9: 请问PVD镀膜膜层的厚度是多少？ A9: PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工。 Q10: 请问PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色有哪些？ A10: 我们目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通过控制镀膜过程中的相关参数，可以控制镀膜的颜色。
登录百度帐号推荐应用您当前的位置：&>&&>&
&&& 目前使用较多的PVD涂层技术主要有两种：磁控溅射和多弧镀膜。其中采用多弧镀技术制备涂层时，设备的结构比较简单，便于操作，通过电焊机提供电源，使离子蒸发源工作，与电焊具有类似的引弧过程。在工作压强达到一定值时，引弧针与靶材通过反复的接触与断开，使气体产生放电现象。多弧镀膜技术主要是利用弧斑的不断移动，在靶材表面上形成连续的熔池，从而使靶材蒸发成气体，最后再沉积在基体表面上得到不同种类的薄膜。相比之下，多弧镀技术能够高效率地利用靶材，使金属充分地进行离子化，最终得到质量较高的薄膜，并且膜基间具有较强的结合力。除此之外，采用多弧镀技术得到的涂层颜色比较均匀稳定，即使是在不同的基体上镀TiN涂层时，薄膜的颜色也都比较稳定，均为金黄色。诸多的优点都是磁控溅射技术不能相比的，但是多弧镀也存在一些缺点，比如使用传统的直流电源时，在涂层温度较低的情况下，当沉积到0.3&m厚的薄膜时，此时，反射率接近沉积率，因此不容易再继续沉积薄膜，这种情况下，薄膜表面开始逐渐变脆，质量下降。另外，由于金属靶材都是先熔化后蒸发的，所以沉积颗粒较大，薄膜比较疏松，密度较低，与磁控溅射技术相比，涂层的自润滑性相对较差。
&&& 由此可见，多弧镀技术与磁控溅射技术均有各自的优缺点。为了使它们能够彼此互补，最大限度地发挥各自的优势，出现了多弧镀与磁控溅射镀相结合的涂层技术，将两种技术合而为一，先采用多弧镀进行打底之后，再利用磁控溅射技术制备涂层，最后再使用多弧镀技术，利用其优点获得颜色稳定的薄膜。这种方法结合了多弧镀和磁控溅射技术各自的优点，能够获得高质量的表面涂层，是一种比较新颖的涂层技术。
&&& 在20世纪80年代中后期，热阴极磁控等离子镀膜技术和热阴极电子枪蒸发离子镀技术应运而生，并且具有很好的作用效果，由此TiN涂层刀具得到了快速发展。热阴极电子枪蒸发离子镀的工作原理是：采用铜坩埚加热金属基体材料，使其熔化，利用电子枪提高强离子化率，使用这种涂层技术获得的TiN薄膜单边厚度为3~5&m，并且具有很好的结合强度和耐磨性能，即使是在表面进行打磨，都难以使涂层脱落。这种方法比较适合用来制备TiN或纯金属涂层，如果想要掺杂其他元素进行多元涂层或复合涂层，这些设备就无法保证薄膜的质量，涂层后的刀具不易对一些硬度较高的材料进行高速切削加工，对于形状复杂的模具来说，也难以满足其多样化的应用要求。
本文由收集整理。本站文章未经允许不得转载；如欲转载请注明出处，北京桑尧科技开发有限公司网址：&
无相关信息喷砂对PVD涂层质量的影响_百度文库
两大类热门资源免费畅读
续费一年阅读会员，立省24元！
喷砂对PVD涂层质量的影响
阅读已结束，下载文档到电脑
想免费下载本文？
定制HR最喜欢的简历
你可能喜欢拒绝访问 |
| 百度云加速
请打开cookies.
此网站 () 的管理员禁止了您的访问。原因是您的访问包含了非浏览器特征(3aef593a859c43c5-ua98).
重新安装浏览器，或使用别的浏览器